[发明专利]一种高真空条件下的HCl气体回收方法无效

专利信息
申请号: 201510113466.7 申请日: 2015-03-16
公开(公告)号: CN104707464A 公开(公告)日: 2015-06-17
发明(设计)人: 陈勇 申请(专利权)人: 富彤化学有限公司
主分类号: B01D53/78 分类号: B01D53/78;B01D53/68
代理公司: 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 代理人: 田欣欣;李雪花
地址: 225300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 条件下 hcl 气体 回收 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种连续化高真空条件下HCl气体回收利用方法,尤其是涉及一种高真空条件下的HC1气体回收方法。

背景技术

  氯化氢,一个氯化氢分子是由一个氯原子和一个氢原子构成的。分子式为HCl。水溶液俗称盐酸,学名氢氯酸。氯化氢是无色而有刺激性气味的气体,氯化氢易溶于水,在0℃时,1体积的水大约能溶解500体积的氯化氢;氯化氢主要用于制染料、香料、药物、各种氯化物及腐蚀抑制剂,相对分子质量为36.5。

在化工生产中有许多化学反应副产HCl气体,在常压条件HCl回收利用已比较完善、成熟,回收率和副产盐酸浓度都可以满足生产要求。但在真空条件下回收HCl气体难度大,特别是真空高,绝对压力在1500Pa以下HCl气体的回收利用率低,副产盐酸浓度达不到31%,废气排放和中和废水量大。

发明内容

为解决上述技术问题,本发明采用如下技术方案:

一种高真空条件下的HCl气体回收方法,包括五级吸收系统相互连接:

(1)第一级为浓盐酸系统,浓盐酸塔循环吸收HCl气体浓度为28~32%,优选31%,温度10~20℃,优选15℃,循环量3~15m3/h,优选10m3/h;浓盐酸采用连续进出料方式,由第二级稀盐酸槽连续补充到浓盐酸槽,31%浓盐酸连续从浓盐酸泵输出;填料塔直径根据HCl处理量确定,HCl气体在塔内流速为0.2~1.0m/s,优选0.5m/s。

(2)第二级为稀盐酸系统稀盐酸塔循环稀盐酸浓度为15~20%,优选18%,温度10~20℃,优选15℃,循环量3~15m3/h,优选10m3/h;稀盐酸采用连续进出料方式,稀盐酸吸收系统的稀盐酸槽连续用液位差流入浓盐酸槽。

(3)第三级为淡盐酸系统,淡盐酸槽利用液位差连续流入稀盐酸槽,淡盐酸吸收系统的淡盐酸塔循环吸收浓度为5~10%,优选8%,温度10~20℃,优选15℃,循环量3~15m3/h,优选10m3/h;淡盐酸采用连续进出料方式,淡盐酸吸收系统的淡盐酸槽连续用液位差流入稀盐酸槽。

(4)第四级为水洗系统,水洗塔循环吸收液含HCl浓度为1~5%,优选2%,吸收温度10~20℃,优选15℃,循环量3~15m3/h,优选10m3/h;水洗系统采用连续用自来水补充到水洗槽,并保持水洗槽的液位,水补充量按HCl气体产生量确定。

(5)第五级为碱洗系统,碱液槽abNaOH浓度为2~5%,优选3%,碱洗循环量3~15m3/h,优选10m3/h,碱洗温度10~20℃,优选15℃;碱液槽有二个可进行切换操作,当碱洗液达到pH8时要进行切换,防止HCl气体进入真空抽气机组,造成机组酸性破坏。

本发明的优点是第一,HCl气体在绝对压<1500Pa条件下的吸收效率可达99.5%;第二,连续化运行、工艺简单可靠、操作方便、安全性高;第三,本发明为亚磷酸酯和磷酸酯生产提高高真空的可能性,提高亚磷酸酯和磷酸酯生产的收率;第四,本发明大大减少气体排放和废水排放量。

具体实施方式

一种高真空条件下的HCl气体回收方法,包括五级吸收系统相互连接:

(1)第一级为浓盐酸系统,浓盐酸塔循环吸收HCl气体浓度为28~32%,优选31%,温度10~20℃,优选15℃,循环量3~15m3/h,优选10m3/h;浓盐酸采用连续进出料方式,由第二级稀盐酸槽连续补充到浓盐酸槽,31%浓盐酸连续从浓盐酸泵输出;填料塔直径根据HCl处理量确定,HCl气体在塔内流速为0.2~1.0m/s,优选0.5m/s。

(2)第二级为稀盐酸系统稀盐酸塔循环稀盐酸浓度为15~20%,优选18%,温度10~20℃,优选15℃,循环量3~15m3/h,优选10m3/h;稀盐酸采用连续进出料方式,稀盐酸吸收系统的稀盐酸槽连续用液位差流入浓盐酸槽。

(3)第三级为淡盐酸系统,淡盐酸槽利用液位差连续流入稀盐酸槽,淡盐酸吸收系统的淡盐酸塔循环吸收浓度为5~10%,优选8%,温度10~20℃,优选15℃,循环量3~15m3/h,优选10m3/h;淡盐酸采用连续进出料方式,淡盐酸吸收系统的淡盐酸槽连续用液位差流入稀盐酸槽。

(4)第四级为水洗系统,水洗塔循环吸收液含HCl浓度为1~5%,优选2%,吸收温度10~20℃,优选15℃,循环量3~15m3/h,优选10m3/h;水洗系统采用连续用自来水补充到水洗槽,并保持水洗槽的液位,水补充量按HCl气体产生量确定。

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