[发明专利]在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的工艺和设备在审
申请号: | 201510115281.X | 申请日: | 2015-03-16 |
公开(公告)号: | CN104762609A | 公开(公告)日: | 2015-07-08 |
发明(设计)人: | 高忠义;郭鸿杰;刘永利;彭彦平;鞠浩民;谢金桥;黄昌;焦伟;王裕建 | 申请(专利权)人: | 惠州欧博莱光电技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40;C23C16/02;C23C16/44 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 蒋剑明 |
地址: | 516006 广东省惠州市仲恺*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 容器 内壁 形成 多层 阻隔 薄膜 工艺 设备 | ||
1.一种在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备,用于为玻璃容器的内壁形成多层阻隔性薄膜,其特征在于,包括:机座、输气管道、微波密封罩、天线、模式转换器、调配器、波导管、脉冲微波发生源;
所述玻璃容器收容于所述微波密封罩内,所述微波密封罩置于所述机座上,所述输气管道与所述微波密封罩贯通,所述脉冲微波发生源通过所述波导管与所述模式转换器连通,所述脉冲微波发生源用于产生高功率脉冲微波,所述高功率脉冲微波经过所述波导管导入到所述模式转换器,且所述高功率脉冲微波在所述调配器的调谐下经过所述天线,并均匀的进入到所述玻璃容器的内部;
在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备还包括真空泵,所述真空泵设于所述输气管道上。
2.根据权利要求1所述的在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备,其特征在于,所述脉冲微波发生源的数量为两个。
3.根据权利要求1所述的在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备,其特征在于,所述波导管为弯曲的管状结构。
4.一种采用权利要求1至3中任意一项所述的在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的设备的工艺,其特征在于,对所述机座及所述输气管道进行抽真空,经所述输气管道通入氧气到所述微波密封罩内,所述脉冲微波发生源产生的所述高功率脉冲微波经过所述波导管导入到所述模式转换器,在所述调配器的调谐下经过所述天线,所述高功率脉冲微波均匀的进入到真空的所述玻璃容器内部,在所述玻璃容器内部产生高能等离子体并均匀分布在所述玻璃容器内壁,通入的氧气在所述高功率脉冲微波的作用下产生氧气等离子体,所述氧气等离子体对所述玻璃容器内壁作加热、表面清洁和表面活化处理;
向所述玻璃容器内先后通入多种特殊气体,并电离所述特殊气体,破坏所述特殊气体的化学键,使得不同分子之间进行化学反应,在所述玻璃容器内壁生成致密、均匀分布的氧化薄膜,并使得不同纳米级厚度的所述氧化薄膜交替沉积于所述玻璃容器内壁;
其中,多种所述特殊气体反应生成的氧化薄膜应分别具有不同的折射率的特性。
5.根据权利要求4所述的在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的工艺,其特征在于,所述特殊气体为两种,分别为HMDSO和TiCl4。
6.根据权利要求4所述的在玻璃容器内壁形成多层阻隔性薄膜的工艺,其特征在于,所述特殊气体还可以为含Ta、Zr或Ni的特殊气体。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的