[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理方法，在基板处理装置中执行，该基板处理装置具有用于保持基板的基板保持单元和用于对所述基板从下方进行加热的加热板，其特征在于，

包括：

处理液供给工序，在所述加热板配置在从所述基板保持单元向下方退避的退避位置的状态下，向由所述基板保持单元保持的所述基板的上表面供给处理液；

保护液液膜形成工序，与所述处理液供给工序并行地在所述加热板的上表面形成覆盖该上表面的保护液的液膜；

基板加热工序，一边使所述加热板与所述基板的下表面接近或接触，一边通过该加热板对所述基板进行加热。

2.如权利要求1所述的基板处理方法，其特征在于，

所述保护液液膜形成工序包括向所述加热板的上表面连续地供给保护液的工序。

3.如权利要求1或2所述的基板处理方法，其特征在于，

所述保护液液膜形成工序包括从在所述加热板的上表面上形成的保护液喷出口喷出保护液的工序。

4.如权利要求1或2所述的基板处理方法，其特征在于，

所述处理液供给工序包括：

向所述基板的上表面供给药液或冲洗液的工序，

有机溶剂供给工序，向所述基板的上表面供给有机溶剂，以将所述基板的上表面上的药液或冲洗液置换为有机溶剂的液膜；

在所述基板加热工序中，通过所述有机溶剂供给工序形成在所述基板的上表面上的所述有机溶剂的液膜，在所述基板的上表面被加热。

5.一种基板处理装置，其特征在于，具有：

基板保持单元，用于将基板保持为水平姿势；

处理液供给单元，向由所述基板保持单元保持的基板的上表面供给处理液；

加热板，用于在所述加热板与所述基板的下表面接近或接触的状态下，对所述基板从下方进行加热；

保护液供给单元，与通过所述处理液供给单元供给所述处理液并行地，向所述加热板的上表面供给保护液，以在所述加热板的上表面上形成保护液的液膜。

6.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，

所述加热板具有：

保护液喷出口，在该加热板的上表面上开口，

保护液流通路径，与该保护液喷出口相连通，用于使向所述保护液喷出口供给的保护液流通，

保护液配管，用于划分形成所述保护液喷出口和所述保护液流通路径，并固定地设置在所述加热板上，

堵塞构件，能够在所述保护液流通路径进行上下移动，且能够对所述保护液喷出口进行堵塞，

在未从所述保护液喷出口喷出保护液时，所述堵塞构件配置在对所述保护液喷出口进行堵塞的堵塞位置，且在从所述保护液喷出口喷出保护液时，所述堵塞构件配置在比所述加热板的上表面靠上方的浮起位置，

在所述堵塞构件位于所述浮起位置的状态下，所述堵塞构件将从所述保护液喷出口喷出的保护液向所述加热板的外周部引导。

7.如权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，

所述堵塞构件能够在所述保护液流通路径自由地进行上下移动，

所述堵塞构件受到来自在所述保护液流通路径流通的保护液的压力，而配置在所述浮起位置。

8.如权利要求6或7所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述堵塞构件位于所述堵塞位置时，该堵塞构件的上表面与所述加热板的所述上表面位于同一平面上，或从所述加热板的上表面向下方退避。

9.如权利要求5或6所述的基板处理装置，其特征在于，

所述处理液供给单元具有：

第一处理液供给单元，将含有药液或冲洗液的第一处理液向所述基板供给，

第二处理液供给单元，将含有有机溶剂的第二处理液向所述基板供给，以在所述基板的上表面上形成该第二处理液的液膜；

所述加热板在所述第二处理液的液膜形成在所述基板的上表面上的状态下，对所述基板进行加热。