[发明专利]利用SiO2膜测量微纳长度的系统及方法

权利要求书

1.利用SiO₂膜测量微纳长度的系统，其特征在于：利用SiO₂膜测量微纳长度的系统包括光源(1)、透镜(2)、指示光栅分光板(3)、指示光栅SiO₂膜(4)、标尺光栅SiO₂膜(5)、工作台(6)、压电陶瓷(7)、计算机(8)、辨向电路(9)、电线(10)、光敏元件阵(11)和标尺光栅分光板(12)；光源(1)在透镜(2)的上方，光源(1)通过光线(13)与透镜(2)连接；倾斜的指示光栅分光板(3)和标尺光栅分光板(12)在透镜(2)的下方，透镜(2)通过光线(13)分别与指示光栅分光板(3)和标尺光栅分光板(12)连接；指示光栅SiO₂膜(4)和标尺光栅SiO₂膜(5)分别在指示光栅分光板(3)和标尺光栅分光板(12)的下方，指示光栅SiO₂膜(4)通过光线(13)与指示光栅分光板(3)连接，标尺光栅SiO₂膜(5)通过光线(13)与标尺光栅分光板(12)连接；指示光栅分光板(3)、标尺光栅分光板(12)和光敏元件阵(11)依次排列，光线(13)将指示光栅分光板(3)、标尺光栅分光板(12)和光敏元件阵(11)依次连接；光敏元件阵(11)、辨向电路(9)和计算机(8)通过电线(10)依次连接；标尺光栅SiO₂膜(5)固定在工作台(6)上，压电陶瓷(7)靠在工作台(6)的侧面。

2.根据权利要求1所述的利用SiO₂膜测量微纳长度的系统，其特征在于：指示光栅SiO₂膜(4)和标尺光栅SiO₂膜(5)成一定的角度放置，标尺光栅SiO₂膜(5)上的光的干涉条纹与指示光栅SiO₂膜(4)上光的干涉条纹不平行，它们之间有一个小的角度。

3.根据权利要求1所述的利用SiO₂膜测量微纳长度的系统，其特征在于：光敏元件阵(11)的表面上的莫尔条纹是由标尺光栅SiO₂膜(5)上的光的干涉条纹与指示光栅SiO₂膜(4)上光的干涉条纹反射后产生。

4.根据权利要求1所述的利用SiO₂膜测量微纳长度的系统，其特征在于：指示光栅SiO₂膜(4)不动，工作台(6)和固定在工作台(6)上的标尺光栅SiO₂膜(5)一起移动，工作台(6)的移动方向与标尺光栅SiO₂膜(5)上的光的干涉条纹垂直。