[发明专利]基于仿体的光学投影断层成像系统的几何校正方法

权利要求书

1.一种基于仿体的光学投影断层成像系统的几何校正方法，其特征在于，所述方法包括：

对仿体进行数据采集得到二维投影数据，并且将所述二维投影数据进行三维重建得到三维重建数据，所述三维重建数据包括样本旋转轴水平偏移信息和旋转信息；

根据所述样本旋转轴水平偏移和旋转信息获取所述样本旋转轴水平偏移信息和旋转信息对应的旋转轴水平偏移量和旋转角；

通过所述旋转轴水平偏移量和旋转角分别将所述旋转轴水平偏移量和旋转角对应的水平偏移和旋转偏移进行几何校正；

所述根据所述样本旋转轴水平偏移和旋转信息获取所述样本旋转轴水平偏移信息和旋转信息对应的旋转轴水平偏移量和旋转角包括：

根据下式计算所述旋转轴水平偏移量：

Δu＝M×|d-r|

其中，Δu为所述旋转轴水平偏移量，M为光学投影断层成像系统的放大倍数，r为所述仿体中的荧光微珠对应的圆环的半径，d为电荷耦合元件CCD相机的中心与线阵的距离；

所述通过所述旋转轴水平偏移量和旋转角分别将所述旋转轴水平偏移量和旋转角对应的水平偏移和旋转偏移进行几何校正包括：

将旋转台通过所述旋转轴水平偏移量向第一方向移动，并对所述仿体进行数据采集得到第一投影数据；

将所述第一投影数据进行重建得到第一重建切片；

如果所述第一重建切片中的仿体对应的圆环的圆心与所述CCD相机的中心重合，则所述光学投影断层成像系统的水平偏移校正完成；

如果所述第一重建切片中的仿体对应的圆环的圆心与所述CCD相机的中心不重合，则将所述旋转台通过所述旋转轴水平偏移量向第二方向移动；

所述通过所述旋转轴水平偏移量和旋转角分别将所述旋转轴水平偏移量和旋转角对应的水平偏移和旋转偏移进行几何校正还包括：

将CCD相机的探测器通过所述旋转角向所述第一方向旋转，并对所述仿体进行数据采集得到第二投影数据；

将所述第二投影数据进行重建得到第二重建切片；

如果所述第二重建切片中的仿体的切面与所述CCD相机的中轴线平行，则所述光学投影断层成像系统的旋转偏移校正完成；

如果所述第二重建切片中的仿体的切面与所述CCD相机的中轴线不平行，则将CCD相机的探测器通过所述旋转角向所述第二方向旋转；

所述三维重建数据包括样本旋转轴水平偏移信息和旋转信息包括：

根据下式计算所述旋转信息：

α＝sin^-1d/l

其中，α为所述旋转信息，d为所述CCD相机的中心与线阵的距离，l为所述线阵与CCD相机中轴线的交点到所述CCD相机中心的距离。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

如果所述线阵的平面与所述CCD相机平面的投影垂直，且以所述线阵中的最小的荧光微珠为中心并依次增大，则所述仿体的旋转轴位于最优的景深之内。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

如果所述荧光微珠的投影从所述第一方向向所述第二方向增大，则将所述旋转台向所述第一方向移动；

如果所述荧光微珠的投影从所述第一方向向所述第二方向减小，则将所述旋转台向所述第二方向移动。