[发明专利]记录介质及记录介质的制造方法有效
申请号: | 201510130726.1 | 申请日: | 2015-03-24 |
公开(公告)号: | CN104943431B | 公开(公告)日: | 2019-07-05 |
发明(设计)人: | 多田智 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | B41M5/50 | 分类号: | B41M5/50 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 王玉双;祁建国 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 记录 介质 制造 方法 | ||
1.一种记录介质,包括:
墨水接收层,
其中,所述墨水接收层包括亲水性树脂和低吸油多孔二氧化硅,
其中,所述低吸油多孔二氧化硅的吸油量不超过5ml/100g。
2.根据权利要求1所述的记录介质,其中,所述低吸油多孔二氧化硅的吸油量不超过1ml/100g。
3.根据权利要求1所述的记录介质,其中,所述低吸油多孔二氧化硅的平均粒径不超过5μm。
4.根据权利要求1所述的记录介质,其中,所述墨水接收层中的低吸油多孔二氧化硅的含量不小于20at%且不大于30at%。
5.根据权利要求1所述的记录介质,其中,将印刷墨水置于所述墨水接收层时的扩散率不超过10%。
6.根据权利要求1所述的记录介质,其中,所述墨水接收层的厚度不小于10μm且不大于20μm。
7.根据权利要求1所述的记录介质,其中,所述墨水接收层含有固色剂。
8.根据权利要求7所述的记录介质,其中,所述固色剂与所述亲水性树脂电性结合。
9.根据权利要求1所述的记录介质,其中所述亲水性树脂是阳离子型亲水性树脂。
10.根据权利要求1所述的记录介质,还包括:
设置在所述墨水接收层下方的基层。
11.一种记录介质的制造方法,所述方法包括:
涂敷包含亲水性树脂和低吸油多孔二氧化硅的涂料;以及
将UV光照射在所涂敷的涂料上,使其固化,
其中,所述低吸油多孔二氧化硅的吸油量不超过5ml/100g。
12.根据权利要求的11的记录介质的制造方法,其中,所述涂料的涂敷是通过丝网印刷来执行的。
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