[发明专利]吸附装置及方法

权利要求书

1.一种吸附装置，其特征在于，包括：

吸附腔，吸附腔设有第一进液口和第一出液口，所述吸附腔顶部设有切换开口，所述吸附腔的下部或所述吸附腔的下方设有第一磁轭，所述吸附腔的附近设有电磁发生装置，所述电磁发生装置用于在所述吸附腔内产生电磁场；

至少两个吸附器，吸附器与吸附腔匹配，所述吸附器能从所述切换开口出入，所述吸附器设有导液套筒，所述吸附器设有第二磁轭，所述第二磁轭套设于所述导液套筒内；

清洗工位，清洗工位设有清洗装置，清洗装置用于清洗吸附器；

切换装置，切换装置与吸附器对接，用于将吸附器在吸附腔和清洗工位之间切换。

2.根据权利要求1所述的吸附装置，其特征在于，所述吸附腔的下部设有所述第一进液口，所述吸附腔的上部设有所述第一出液口，所述吸附器设有磁介质。

3.根据权利要求2所述的吸附装置，其特征在于，所述磁介质套设于所述导液套筒中，所述导液套筒的下部设有第二进液口，所述第二进液口与所述第一进液口对接，所述导液套筒的上部设有第二出液口，所述第二出液口与所述第一出液口对接。

4.根据权利要求3所述的吸附装置，其特征在于，所述磁介质位于所述第一磁轭和所述第二磁轭之间。

5.根据权利要求4所述的吸附装置，其特征在于，所述第二磁轭将所述导液套筒隔开为上层和下层，所述磁介质设于所述下层，所述第二出液口设于所述上层，所述第二磁轭设有至少两个均流孔，所述均流孔将所述上层和所述下层连通。

6.根据权利要求1至5任一所述的吸附装置，其特征在于，所述清洗工位为至少两个。

7.根据权利要求1至5任一所述的吸附装置，其特征在于，所述吸附器的顶部设有清洗孔，所述清洗孔与所述清洗装置对接，或/和所述吸附器的顶部设有导气孔。

8.根据权利要求1至5任一所述的吸附装置，其特征在于，所述切换装置设有平移机构或/和旋转机构。

9.根据权利要求8所述的吸附装置，其特征在于，至少两个所述吸附器通过连接件相互连接成一个整体，所述切换装置与所述连接件对接。

10.一种吸附方法，其特征在于，采用上述权利要求1-9任一项所述的吸附装置，包括：

从第一进液口向吸附腔送入液体，液体流经吸附器时，液体中的杂质附着于吸附器上，吸附过滤后的液体由第一出液口流出；

当一个吸附器吸附杂质后，使用切换装置将吸附器从吸附腔切换至清洗工位，将另一个吸附器切换至吸附腔中，使用清洗装置对吸附器进行清洗。