[发明专利]粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置有效
申请号: | 201510133422.0 | 申请日: | 2010-03-31 |
公开(公告)号: | CN104707267B | 公开(公告)日: | 2018-04-27 |
发明(设计)人: | 岩田高明 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | A61N5/10 | 分类号: | A61N5/10 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 俞丹 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 粒子 射线 照射 装置 治疗 | ||
1.一种粒子射线照射装置,包括:
扫描电磁铁,该扫描电磁铁使得由加速器进行了加速的带电粒子束进行扫描,且该扫描电磁铁具有磁滞;
扫描电源,该扫描电源输出驱动所述扫描电磁铁的励磁电流;以及
照射控制装置,该照射控制装置控制所述扫描电源,其特征在于,
所述照射控制装置包括扫描电磁铁指令值学习生成器,该扫描电磁铁指令值学习生成器具有生成所述励磁电流的指令值的数学模型,且该扫描电磁铁指令值学习生成器对预扫描的结果进行评价,基于所述评价后的评价结果来更新所述数学模型的参数,并积累所述预扫描的经验,将基于积累的所述预扫描的经验而由所述数学模型生成的所述励磁电流的指令值输出到所述扫描电源,所述预扫描是基于输出到所述扫描电源的所述励磁电流的指令值的一系列的照射动作,是对治疗计划数据进行学习照射的预扫描。
2.如权利要求1所述的粒子射线照射装置,其特征在于,
所述数学模型基于所述带电粒子束所照射的照射对象上的目标照射位置坐标,来生成所述励磁电流的指令值。
3.如权利要求1所述的粒子射线照射装置,其特征在于,
所述数学模型是具有所述扫描电磁铁的磁滞特性的所述励磁电流的指令值到所述带电粒子束的照射位置的映射为正映射的情况下的逆映射。
4.如权利要求1所述的粒子射线照射装置,其特征在于,
所述数学模型是前馈型神经网络。
5.如权利要求2所述的粒子射线照射装置,其特征在于,
所述数学模型是前馈型神经网络。
6.如权利要求3所述的粒子射线照射装置,其特征在于,
所述数学模型是前馈型神经网络。
7.如权利要求4所述的粒子射线照射装置,其特征在于,
所述前馈型神经网络具有单层隐藏层。
8.如权利要求5所述的粒子射线照射装置,其特征在于,
所述前馈型神经网络具有单层隐藏层。
9.如权利要求6所述的粒子射线照射装置,其特征在于,
所述前馈型神经网络具有单层隐藏层。
10.一种粒子射线治疗装置,其特征在于,
包括:射束产生装置,该射束产生装置用来产生带电粒子束;加速器,该加速器使得由所述射束产生装置所产生的所述带电粒子束进行加速;射束输送装置,该射束输送装置输送由所述加速器进行了加速的带电粒子束;以及粒子射线照射装置,该粒子射线照射装置用扫描电磁铁、使得由所述射束输送装置输送的带电粒子束进行扫描,来对照射对象进行照射,
所述粒子射线照射装置是权利要求1至9的任一项所述的粒子射线照射装置。
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