[发明专利]可控温加热式传送腔及其工艺装置和控温加热方法在审
申请号: | 201510133648.0 | 申请日: | 2015-03-25 |
公开(公告)号: | CN104716077A | 公开(公告)日: | 2015-06-17 |
发明(设计)人: | 邵克坚;刘东升;吕煜坤;朱骏;张旭升 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/02 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 王宏婧 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 可控 加热 传送 及其 工艺 装置 方法 | ||
1.一种可控温加热式传送腔,其特征在于,所述可控温加热式传送腔,包括:
第一传送手臂,设置在所述可控温加热式传送腔内,并用于将晶圆从所述可控温加热式传送腔内传送至所述工艺反应腔室内;
控温加热装置,进一步包括:加热装置,设置在所述可控温加热式传送腔之内壁,且与外界电源电连接;控温装置,与所述加热装置电连接,并用于控制所述加热装置之加热温度;具有过温断路器和高温熔断器的输电线路,设置在所述加热装置、所述控温装置,以及所述外界电源之间。
2.如权利要求1所述的可控温加热式传送腔,其特征在于,所述加热装置设置在所述可控温加热式传送腔之内壁的方式为贴片式的加热带。
3.如权利要求1所述的可控温加热式传送腔,其特征在于,所述加热装置设置在所述可控温加热式传送腔之内壁的方式为内插式的加热棒。
4.如权利要求1所述的可控温加热式传送腔,其特征在于,所述加热装置为电热丝。
5.如权利要求1所述的可控温加热式传送腔,其特征在于,所述高温熔断器为温度保险丝。
6.一种具有如权利要求1所述的可控温加热式传送腔之工艺装置,其特征在于,所述具有可控温加热式传送腔的工艺装置,包括:
可控温加热式传送腔,通过气闸与外界大气压腔室相连,并在所述可控温加热式传送腔内设置用于晶圆传送的第一传送手臂,在所述外界大气压腔室内设置用于晶圆传送的第二手臂;
晶圆承载装置,用于承载待工艺处理之晶圆,并通过设置在所述外界大气压腔室内的第二传送手臂将承载在所述晶圆承载装置内的晶圆传送至所述气闸;
工艺反应腔室,与所述可控温加热式传送腔相连。
7.如权利要求6所述的具有可控温加热式传送腔之工艺装置,其特征在于,与所述可控温加热式传送腔相连的工艺反应腔室之数量至少为1个。
8.如权利要求6所述的具有可控温加热式传送腔之工艺装置,其特征在于,所述具有可控温加热式传送腔的工艺装置之气闸上设置贴片式加热带。
9.一种如权利要求1所述的可控温加热式传送腔之温控加热方法,其特征在于,所述温控加热方法,包括:
执行步骤S1:所述加热装置与外界电源电连接,并将电能转化为热能;
执行步骤S2:所述控温装置对所示加热装置的加热温度进行控制,并使得所述可控温加热式传送腔实现恒定设置温度T1,且所述可控温加热式传送腔内的恒定设置温度T1<所述工艺反应腔室内的工艺环境温度T2;
执行步骤S3:当所述可控温加热式传送腔内的实测温度T3>所述过温断路器之设定温度T4>所述可控温加热式传送腔内的恒定设置温度T1时,所述过温断路器断开;当所述可控温加热式传送腔内的实测温度T3>所述高温熔断器之熔断温度T5>所述过温断路器之设定温度T4>所述可控温加热式传送腔内的恒定设置温度T1时,所述高温熔断器熔断。
10.如权利要求9所述的可控温加热式传送腔之温控加热方法,其特征在于,所述工艺反应腔室的工艺环境温度T2为65~280℃,所述控温装置控制所述可控温加热式传送腔的恒定设置温度T1为60℃,所述过温断路器的设定温度T4为80℃。所述高温熔断器之熔断温度T5为100℃,所述气闸上设置贴片式加热带的加热温度T6为35℃。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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