[发明专利]聚硅氧烷类粘合带有效

专利信息
申请号: 201510134984.7 申请日: 2015-03-26
公开(公告)号: CN104946144B 公开(公告)日: 2019-11-29
发明(设计)人: 泽崎良平;设乐浩司 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: C09J7/25 分类号: C09J7/25;C09J7/50;C09J183/04;C09J11/08
代理公司: 11219 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 王海川;穆德骏<国际申请>=<国际公布>
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 聚硅氧烷类 粘合
【权利要求书】:

1.一种聚硅氧烷类粘合带,其特征在于,

在基材薄膜的至少一个面侧具有含有聚硅氧烷类聚合物和聚硅氧烷类剥离剂的聚硅氧烷类粘合剂层,

初始粘合力为0.01~0.10N/25mm,

下式(1)的值为80以下,

(粘合力A)/(粘合力B)×100 (1)

粘合力A:粘贴到玻璃上并在85℃下保存48小时后对玻璃的粘合力;

粘合力B:将在基材薄膜的一个面侧具有不含有聚硅氧烷类剥离剂的聚硅氧烷类粘合剂层的粘合带粘贴到玻璃上并在85℃下保存48小时后对玻璃的粘合力,

所述粘合剂层的厚度为3μm~200μm,

所述基材膜为选自由聚酯膜、纤维素膜以及丙烯酸类树脂膜构成的组中的一种。

2.如权利要求1所述的聚硅氧烷类粘合带,其中,

所述聚硅氧烷类粘合剂层中聚硅氧烷类剥离剂的含量相对于100重量份聚硅氧烷类聚合物为0.2重量份以上且100重量份以下。

3.如权利要求1或2所述的聚硅氧烷类粘合带,其中,

所述聚硅氧烷类粘合剂层的雾度为1.5%以下。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510134984.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top