[发明专利]一种用于液流电池的密封圈

说明书

技术领域

本发明涉及流体密封技术领域，特别是用于液流电池的密封圈。

背景技术

密封对液流电池来说相当重要，是保障液流电池系统安全运行的基本条件，若系

统出现漏液现象或者密封安全系数低，则会直接影响系统的使用效率，进而造成不必要的

经济损失。传统技术设计的密封圈，都要求其密封面不能出现漏点，如图1 所示，当密封面1 出现漏点3，或者密封面5 出现漏点4 时，密封圈2 就无法密封。但在实际生产过程中，密封面经常会出现一些漏点，特别是液流电池的液流框，因为液流框都是用工程塑料制成的，由于塑料薄板在内应力的作用下会自然翘曲，其塑料薄板的表面会变得起伏不平，在塑料薄板表面加工密封圈槽时，其密封圈槽的深度经常会出现深浅不一的情况，在密封圈槽的最深处往往会形成一个个漏点。由于种种原因塑料薄板在成型过程中会产生一些凹坑，如

果这些凹坑出现在密封面上就形成了漏点。我们在搬运、储存、加工塑料薄板过程中，其塑

料薄板的表面很容易被划伤、碰伤，这些伤痕都有可能成为密封面上的漏点。总之引起密封

面表面出现漏点的因素很多，这会让人防不胜防。如果要人为消除这些漏点，不仅费工、费

料、费时，而且其密封的可靠性仍然不高。因此，传统设计的密封圈已无法满足液流电池对

密封可靠性的要求。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种密封圈，用于解决现

有密封圈所带来的缺点和不足，提供一种可防密封面漏点的密封圈。

为实现上述目的及其他相关目的，本发明采用如下技术方案，一种密封圈，所述密

封圈内设有若干密封舱室结构。

优选地，所述密封舱室结构容纳密封圈在20 ～ 40% 压缩率的情况下的变形。

优选地，所述密封舱室结构为双层密封舱室结构。

优选地，所述双层密封舱室结构之间由H 形墙板结构和矩形墙结构交替组成。

优选地，所述每一密封舱室结构的横截面为圆形、跑道圆、正方形、矩形、三角形、多边形和扇形中的一种。

优选地，所述每层密封舱室结构为双排舱室。

 优选地，所述双排舱室对称设置或交错设置。

本发明可防密封面漏点的密封圈，其设置上下两层，上层与下层都设置形状、数

量、大小都相等的密封舱室，密封圈的横截面的几何形状由H 型和矩形墙板组成，其密封面由数条几何边呈封闭形状，并要求密封舱室能够容纳高压缩率的几何变形，通过本发明，当密封面上出现诸多漏点时，密封圈仍具有良好密封性能。

附图说明

图1 显示为传统橡胶密封圈结构示意图。

 图2a-2c 显示为本发明密封圈结构示意图。

 图3 显示为本发明防深度漏点的效果图。

 图4 显示为无限浅漏点示意图。

图5 显示为本发明在检漏装置的安装图。

图6 显示为检漏装置密封面刻有限深漏点的意图。

图7 显示为检漏装置密封面刻有无限浅漏点示意图。

图8 显示为液流框密封圈安装示意图。

图9a-9c 显示为舱室横截面为圆形的密封面结构示意图。

 图10a-10c 显示为舱室横截面为跑道形的密封面结构示意图。

 图11a-11c 显示为舱室横截面为方形的密封面结构示意图。

图12a-12c 显示为舱室横截面为矩形的密封面结构示意图。

 图13a-13c 显示为舱室横截面为三角形的密封面结构示意图。

 图14a-14b 显示为舱室横截面为蜂窝状的密封面结构示意图。

元件标号说明

上密封面 1 密封圈横截面 2

上密封面漏点 3 下密封面漏点 4

下密封面 5 H 形承力墙板 6

下层密封舱室 7 外承力墙板 8

隔层 9 内承力墙板 10

上密封面 11 上层密封舱室 12

矩形承力墙板 13 下密封面 14、15

密封圈横截面 16 上密封面 17

深漏点 18 检漏装置螺栓孔 19

无限数量浅漏点的密封面 20 浅漏点 21

检漏装置进气孔 22 密封圈 23

深漏点 26 密封圈压痕 27

模拟无限浅漏点 33 液流框密封圈 35

主流道密封圈 36 液流框 37。

具体实施方式