[发明专利]弹性膜、基板保持装置及研磨装置有效
申请号: | 201510136596.2 | 申请日: | 2015-03-26 |
公开(公告)号: | CN104942704B | 公开(公告)日: | 2018-10-02 |
发明(设计)人: | 福岛诚;安田穗积;並木计介;锅谷治;富樫真吾;山木晓;矶野慎太郎 | 申请(专利权)人: | 株式会社荏原制作所 |
主分类号: | B24B37/30 | 分类号: | B24B37/30;B24B37/10;H01L21/687 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 梅高强;刘煜 |
地址: | 日本国东京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 弹性 保持 装置 研磨 | ||
1.一种弹性膜,用于基板保持装置,其特征在于,具备:
抵接部,该抵接部抵接于基板,并将该基板按压于研磨垫;
第一边缘周壁,该第一边缘周壁从所述抵接部的周端部向上方延伸;及
第二边缘周壁,该第二边缘周壁具有连接于所述第一边缘周壁的内周面的水平部,
所述第一边缘周壁的内周面具有相对所述抵接部垂直延伸的上侧内周面及下侧内周面,
所述上侧内周面及所述水平部的上表面形成第一边缘压力室,
所述下侧内周面及所述水平部的下表面形成第二边缘压力室,
从所述第二边缘压力室隔离所述第一边缘压力室,
所述第一边缘压力室配置于所述第二边缘压力室的上方,
所述上侧内周面从所述第二边缘周壁的所述水平部向上方延伸,所述下侧内周面从所述第二边缘周壁的所述水平部向下方延伸,
所述上侧内周面及所述下侧内周面处于同一面内。
2.如权利要求1所述的弹性膜,其特征在于,
在所述下侧内周面上形成有沿所述第一边缘周壁的周向延伸的环状槽。
3.如权利要求2所述的弹性膜,其特征在于,
所述环状槽形成于所述下侧内周面的下端。
4.如权利要求1所述的弹性膜,其特征在于,
还具备配置于所述第二边缘周壁的径向内侧的第三边缘周壁,
所述第三边缘周壁的下端连接于所述抵接部,所述第三边缘周壁的下端邻接于所述第一边缘周壁。
5.如权利要求1所述的弹性膜,其特征在于,
所述第一边缘周壁具有连接于所述上侧内周面的弯曲部,
所述上侧内周面、所述弯曲部、以及所述水平部的上表面形成所述第一边缘压力室。
6.一种基板保持装置,其特征在于,具备:
弹性膜,该弹性膜形成用于按压基板的多个压力室;
头本体,该头本体安装所述弹性膜;及
挡环,该挡环以包围所述弹性膜的方式配置,
所述弹性膜构成为,具备:
(i)抵接部,该抵接部抵接于基板,并将该基板按压于研磨垫;
(ii)第一边缘周壁,该第一边缘周壁从所述抵接部的周端部向上方延伸;及
(iii)第二边缘周壁,该第二边缘周壁具有连接于所述第一边缘周壁的内周面的水平部,
所述第一边缘周壁的内周面具有相对所述抵接部垂直延伸的上侧内周面及下侧内周面,
所述上侧内周面及所述水平部的上表面形成第一边缘压力室,
所述下侧内周面及所述水平部的下表面形成第二边缘压力室,
从所述第二边缘压力室隔离所述第一边缘压力室,
所述第一边缘压力室配置于所述第二边缘压力室的上方,
所述上侧内周面从所述第二边缘周壁的所述水平部向上方延伸,所述下侧内周面从所述第二边缘周壁的所述水平部向下方延伸,
所述上侧内周面及所述下侧内周面处于同一面内。
7.如权利要求6所述的基板保持装置,其特征在于,
在所述下侧内周面上形成有沿所述第一边缘周壁的周向延伸的环状槽。
8.如权利要求7所述的基板保持装置,其特征在于,
所述环状槽形成于所述下侧内周面的下端。
9.如权利要求6所述的基板保持装置,其特征在于,
弹性膜还具备配置于所述第二边缘周壁的径向内侧的第三边缘周壁,
所述第三边缘周壁的下端连接于所述抵接部,所述第三边缘周壁的下端邻接于所述第一边缘周壁。
10.如权利要求6所述的基板保持装置,其特征在于,
所述第一边缘周壁具有连接于所述上侧内周面的弯曲部,
所述上侧内周面、所述弯曲部、以及所述水平部的上表面形成所述第一边缘压力室。
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