[发明专利]微波微等离子体电子源在审

专利信息
申请号: 201510136907.5 申请日: 2015-03-26
公开(公告)号: CN104752147A 公开(公告)日: 2015-07-01
发明(设计)人: 唐佳丽;于新海;涂善东;明小祥;于伟 申请(专利权)人: 华东理工大学
主分类号: H01J49/08 分类号: H01J49/08;H01J49/26;B81C1/00
代理公司: 上海三和万国知识产权代理事务所(普通合伙) 31230 代理人: 章鸣玉
地址: 200237 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 微波 等离子体 电子
【权利要求书】:

1.微波微等离子体电子源,依次包括等离子体腔室(5)、电子加速透镜(12)、电子聚焦透镜(11)、能量过滤器(9)和检测器(8),其特征在于:

所述微等离子体电子源为硅-玻璃双层结构,下层为硅基底,上层为玻璃;所述等离子体腔室(5)、电子加速透镜(12)、电子聚焦透镜(11)、能量过滤器(9)和检测器(8)在硅基底上通过深硅刻蚀工艺形成,再与玻璃键合形成所述微等离子体电子源。

2.根据权利要求1所述微波微等离子体电子源,其特征在于,所述等离子体腔室(5)的侧壁上设置电子引出口(13),所述电子引出口(13)后依次为电子加速透镜(12)、电子聚焦透镜(11)、能量过滤器(9)和检测器(8);

在所述等离子体腔室(5)的侧壁上,与所述电子引出口(13)垂直相向的两个方向分别设置气体进样通道(3)和电打火电极(14);

在所述等离子体腔室(5)的侧壁上,与所述电子引出口(13)相对的方向设置微波功率输入电极的引入口(16)。

3.根据权利要求2所述微波微等离子体电子源,其特征在于,在所述气体进样通道(3)的上方玻璃上设置进气口(4),在对应所述进气口位置的玻璃上粘一进气法兰,氩气通过法兰进入所述等离子体腔室(5)。

4.根据权利要求2所述微波微等离子体电子源,其特征在于,所述电打火电极(14)上焊接银丝,在等离子体激发前,打开信号源及放大器,同时用高压陶瓷装置给银丝一个瞬时高电压激励,等离子体产生。

5.根据权利要求1所述微波微等离子体电子源,其特征在于,在所述等离子体腔室(5)内设置并联三开路支节的微带谐振器结构(17),所述并联三开路支节的微带谐振器结构(10)的尾部与SMA接头连接,通过SMA接头和所述谐振器将微波信号耦合到等离子体腔室中,进而电离氩气,形成微等离子体。

6.根据权利要求5所述微波微等离子体电子源,其特征在于,所述并联三开路支节的微带谐振器结构(17)的三开路支节匹配结构(2)通过在玻璃上溅射金属层而形成,与周围硅结构分离的硅盖住所述并联三开路支节的微带谐振器结构(17)的三开路支节匹配结构(2),在所述硅盖与金属层之间有二氧化硅层作为绝缘层。

7.根据权利要求1所述微波微等离子体电子源,其特征在于,所述等离子体腔室(5)为一圆柱腔体。

8.根据权利要求1所述微波微等离子体电子源,其特征在于,由工作在微波频率2.4-2.5GHz的信号源及放大器供给1W的功率,通过SMA接头耦合到电子源;SMA接头连接一个并联三开路支节的微带谐振器结构,使SMA接头处反射系数达到0.2~0.3,该谐振器将微波信号耦合到等离子体腔室中,进而电离氩气,形成微等离子体。

9.根据权利要求1或2所述微波微等离子体电子源,其特征在于,所述深硅刻蚀的深度为200μm;所述电子引出口的宽度为450μm,电子加速、聚焦透镜的出口宽度均为500μm,电子加速聚焦透镜组与电子引出口的距离为500μm,透镜组之间的间距为1000μm,透镜组距离能量过滤器为1000μm,能量过滤器通道宽度为500μm,长度为4710μm,距法拉第筒为1000μm;通过调节电子加速、聚焦透镜及电子能量过滤器上所施加电压的值,可得到不同电子能量的电子流。

10.根据权利要求1所述微波微等离子体电子源,其特征在于,所述微波微等离子体电子源采用微电子机械系统加工技术实现,集成等离子体腔室、引出聚焦透镜组、能量过滤器、检测器在一片硅基底上。

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