[发明专利]一种灰阶掩膜版及利用其制造液晶显示器的方法

权利要求书

1.一种灰阶掩膜版，其特征在于：该掩膜版包括遮光区和与所述的遮光区相邻的过渡区，所述的过渡区位于所述的掩膜版的边缘位置，定义遮光区与过渡区顺序展开的方向为长度方向，与长度方向垂直的方向为宽度方向，所述的过渡区包括若干交错分布的遮光条和透光狭缝，所述的遮光条的宽度向外呈线性递减排列，所述的透光狭缝的宽度小于曝光机能够分辨的最小尺寸。

2.根据权利要求1所述的灰阶掩膜版，其特征在于：所述的遮光条形状为矩形，沿长度方向依次排列。

3.根据权利要求2所述的灰阶掩膜版，其特征在于：所述的透光狭缝宽度相等。

4.根据权利要求1所述的灰阶掩膜版，其特征在于：所述的遮光条形状为梯形，该梯形遮光条的长边连接遮光区，梯形遮光条的短边远离遮光区。

5.根据权利要求4所述的灰阶掩膜版，其特征在于：所述的遮光条沿宽度方向依次排列。

6.根据权利要求4所述的灰阶掩膜版，其特征在于：所述的透光狭缝的最窄部分小于曝光机分辨率允许的最小宽度，透光狭缝最宽的部分大于曝光机分辨率允许的最小宽度。

7.根据权利要求1所述的灰阶掩膜版，其特征在于：所述的遮光条纵横交错分布，形成若干透光孔，所述的透光孔沿长度方向依次变大。

8.一种液晶显示器的制造方法，该液晶显示器包括阵列基板和位于阵列基板内的有机绝缘膜，其特征在于：所述权利要求1至7任一所述的灰阶掩膜版用于曝光形成该有机绝缘膜的图形，掩膜版的过渡区曝光有机绝缘膜的边缘部分，曝光后有机绝缘膜边缘的厚度呈连续变化。