[发明专利]梯形流电积装置

说明书

技术领域

本发明属于有色金属冶炼的电解液净化技术领域，特别涉及一种梯形流电积装置。

背景技术

目前，铜精炼后，在对电解液净化的过程中，现有的惯用措施是将电解液中的铜离子析出，而后继续回流至原电解槽内，析出的铜离子则吸附在阴极板上。因目前在净化过程中大多采用的循环量较小，而且循环方式为溶液从槽底部或端头进入，从槽另一个端头出去，溶液流动慢且分布不均匀，不能保证在阴极附近的金属离子始终处于较高的浓度，当电流密度提高、阴极上离子析出加快时，必将产生浓差极化，循环量大时还会引起沉淀物的搅动使溶液混浊或者造成阳极泥漂浮。至此，导致吸附在阴极板上的铜离子外观质量差，达不到GB/T467—2010中Cu-CATH-2牌号标准阴极铜的要求，只能作为废铜料返回精炼炉重新熔炼，在此再循环的过程中不可避免地造成了能源的浪费，增加了加工成本和加工过程中铜离子的损失。

发明内容

本发明的目的是提供一种利用梯形流技术制备阴极铜的电积装置，该装置通过提高循环速度来增大循环量。

为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：梯形流电积装置，包括储液槽、若干电积槽、连接在所述储液槽出液端上的进液总管、连接在所述电积槽出液端与所述储液槽入液端间的回流管、设于所述电积槽内的进液支管，所述进液支管的管口与所述进液总管上的管出口相连，所述进液支管上沿其轴向开设有多个与其管腔相通的喷射孔，每个所述电积槽内的电解液循环速度控制在75~105L/min，所述电积装置还包括设于所述进液支管前的电解铜添加剂投加装置以及安装在所述进液支管前的加热装置。

优选地，所述电积装置还包括至少包裹在所述进液支管上开设有所述喷射孔一侧的滤网，用以降低所述喷射孔处的出液速度。

优选地，所述电积装置还包括设置在所述进液支管前的过滤装置，用于过滤电解液中的杂质。

优选地，每个所述电积槽内的所述进液支管至少有一根，且所述进液支管沿所述电积槽一侧的长侧壁设置，所有所述进液支管沿所述电积槽的高度方向间隔分布。

优选地，所述电积槽的一侧壁上还开设有与所述回液管相通的回液口。

优选地，所述电积装置还包括固设在所述电积槽内设有所述进液支管的一侧侧壁上的固定件，用于固定所述进液支管，所述固定件有多个，沿所述侧壁的长度延伸方向间隔分布。

优选地，所述电积槽的底面上还开设有用于检修时排空所述电解液的排空孔。

进一步优选地，所述进液总管与所述回液管的直径均为150mm，每个所述电积槽内的所述进液支管有3根，所有所述进液支管上的所述喷射孔的直径均为8~10mm。

进一步优选地，所述加热装置为设于所述储液槽内的钛盘管或蒸汽管。

进一步优选地，进入所述电积槽的所述电解液的温度控制在50~65℃。

由于上述技术方案的运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：本发明的梯形流电积装置，通过提高电积槽内的循环速度来增加了电积槽内溶液的循环量，减少了浓差极化的现象发生，提高了电流密度，确保了阴极铜的产品质量达到标准要求，同时提高了产品的纯度，有效的回收利用了铜精炼后的电解液。

附图说明

附图1为本发明的梯形流电积装置的结构示意图；

附图2为附图1中A处放大图；

其中：1、储液槽；2、电积槽；21、固定件；22、回液口；23、排空孔；3、进液总管；4、进液支管；41、喷射孔；5、回液管；6、电解铜添加剂投加装置；7、加热装置；8、过滤装置；9、滤网。

具体实施方式

下面结合附图及具体实施例来对本发明的技术方案作进一步的阐述。

参见图1所示，一种梯形流电积装置，包括用于储存铜精炼过程中的电解液的储液槽1、多个用于对电解液中的铜离子进行电积回收的电积槽2、连接在储液槽1出液端上的进液总管3、连接在电积槽2出液端与储液槽1入液端间的回液管5、设于电积槽2内的进液支管4，该进液支管4的管口连接至进液总管3的管出口处。每个电积槽2内的电解液循环速度控制在75~105 L/min。在本实施例中，进液总管3与回液管5均采用了直径为150mm的PVC管。