[发明专利]包含含氮化合物的光致抗蚀剂

权利要求书

1.一种光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括：

(a)一种或多种树脂；

(b)一种或多种光酸产生剂化合物；和

(c)一种或多种含氮化合物，所述含氮化合物具有下述通式(IID)

其中R₁、R₂和R₃各自独立表示1至30个碳原子的直链、支化或环基；R₄表示氢或任选取代的1至30个碳原子的直链、支化或环基；n是1至30的整数。

2.权利要求1的光致抗蚀剂组合物，其中一种或多种含氮化合物包含聚合物。

3.权利要求1的光致抗蚀剂组合物，其中一种或多种含氮化合物是非聚合的。

4.权利要求1或2的光致抗蚀剂组合物，其中一种或多种含氮化合物具有小于2000的分子量。

5.权利要求1或2的光致抗蚀剂组合物，其中一种或多种含氮化合物包含一种或多种下列结构：

6.一种形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法，所述方法包括：

a)在基材上施用权利要求1至5中任何一项的光致抗蚀剂组合物的涂层；

b)使所述光致抗蚀剂组合物的涂层曝光至形成图案的活化辐射，并使曝光的所述光致抗蚀剂组合物的涂层显影以提供浮雕图像。

7.一种由下列通式(IID)表示的化合物：

其中R₁、R₂和R₃各自独立表示1至30个碳原子的直链、支化或环基；R₄表示氢或任选被卤素、硝基、氰基、磺酰基、烷基、烷氧基、烯基或芳基取代的1至30个碳原子的直链、支化或环基；n是1至30的整数。