[发明专利]具有金属纳米粒子镀层的多孔金属箔制品及其制备方法

权利要求书

1.具有金属纳米粒子镀层的多孔金属箔制品，其特征在于，包括基体和采用离子镀方法镀在基体上的金属纳米粒子镀层，所述基体为多孔金属箔，多孔金属箔具有孔径为0.1～0.5mm的大量孔，金属纳米粒子镀层的金属纳米粒子的粒度小于100nm。

2.根据权利要求1所述的具有金属纳米粒子镀层的多孔金属箔制品，其特征在于，所述金属纳米粒子镀层的金属纳米粒子的粒度为1～50nm。

3.根据权利要求2所述的具有金属纳米粒子镀层的多孔金属箔制品，其特征在于，所述金属纳米粒子镀层的金属为金、银、铝、铜、锌、铁、镍、钛、铂、钯、钴、钽、稀土金属及其混合物与合金、以及这些金属的混合物与合金。

4.根据权利要求3所述的具有金属纳米粒子镀层的多孔金属箔制品，其特征在于，所述多孔金属箔为铜箔、铝箔、不锈钢箔或合金箔。

5.根据权利要求4所述的具有金属纳米粒子镀层的多孔金属箔制品，其特征在于，所述金属纳米粒子镀层包括叠加的至少两个镀层，或包括复合的至少两个镀层。

6.权利要求1所述具有金属纳米粒子镀层的多孔金属箔制品的制备方法，其特征在于，基体多孔金属箔，多孔金属箔具有孔径为0.1～0.5mm的大量孔，制备方法包括以下步骤：

(1)所述基体在真空室内，真空度为10Pa至3.0×10^-4Pa，加热温度为80℃～260℃，加热时间10～60分钟,进行基体真空除水脱气处理；

(2)采用阴极离子镀膜设备，以氩气或氮气作为保护气体，真空度为1.0×10^-1Pa～3.0×10^-4Pa，温度为30℃～260℃，基体运行速度1.0～30.0m/min，对基体进行等离子体表面清洁处理，以金属为靶材，产生金属离子和纳米粒子，金属离子和纳米粒子密度为1.0～10.0g/m²，在基体表面进行离子镀纳米金属，金属纳米粒子镀层的金属纳米粒子的粒度小于100nm；

(3)将上述材料分切、计量、真空封装。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述金属纳米粒子镀层的金属纳米粒子的粒度为1～50nm。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述金属纳米粒子镀层的金属为金、银、铝、铜、锌、铁、镍、钛、铂、钯、钴、钽、稀土金属及其混合物与合金、以及这些金属的混合物与合金。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述多孔金属箔为铜箔、铝箔、不锈钢箔或合金箔。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤(2)中，在步骤(2)的保护气体、真空度、温度和基体运行速度条件下，在基体上镀上叠加的至少两个镀层，或镀上复合的至少两个镀层。