[发明专利]一种刮伤重复实验快速验证方法在审
| 申请号： | 201510149480.2 | 申请日： | 2015-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN104729910A | 公开（公告）日： | 2015-06-24 |
| 发明（设计）人： | 叶林;许向辉;陈广龙 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G01N3/00 | 分类号： | G01N3/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 重复 实验 快速 验证 方法 | ||
1.一种刮伤重复实验快速验证方法，其特征在于包括：
氮化物生长步骤，用于在重复性实验控片的二氧化硅层上生长一层氮化物层；
马拉松实验步骤，用于使得生长有氮化物层的重复性实验控片在待检测机台上进行重复性马拉松实验；
缺陷放大步骤，用于将完成马拉松实验步骤的重复性实验控片浸入到氢氟酸中，并且在预定时间之后将重复性实验控片从氢氟酸中取出，在清洗重复性实验控片后将重复性实验控片放入缺陷检测机台进行扫描。
2.根据权利要求1所述的刮伤重复实验快速验证方法，其特征在于，氮化物层的厚度介于50A-1000A之间。
3.根据权利要求1或2所述的刮伤重复实验快速验证方法，其特征在于，利用去离子水清洗重复性实验控片。
4.根据权利要求1或2所述的刮伤重复实验快速验证方法，其特征在于，在马拉松实验步骤中，在重复性马拉松实验完成后，重复性实验控片上出现机械刮伤。
5.根据权利要求4所述的刮伤重复实验快速验证方法，其特征在于，所述机械刮伤破坏氮化物层，并且同时将氮化物层下面的二氧化硅层曝露出来。
6.根据权利要求5所述的刮伤重复实验快速验证方法，其特征在于，在缺陷放大步骤中，曝露出来的二氧化硅层与氢氟酸发生化学反应。
7.根据权利要求6所述的刮伤重复实验快速验证方法，其特征在于，化学反应的反应式为：4HF+SiO2→SiF4+2H2O；4HF+Si→SiF4+2H2。
8.根据权利要求1或2所述的刮伤重复实验快速验证方法，其特征在于，在缺陷放大步骤中，机械刮伤被放大成放大缺陷。
9.根据权利要求1或2所述的刮伤重复实验快速验证方法，其特征在于，缺陷放大步骤中的所述预定时间是可调节的。
10.根据权利要求1或2所述的刮伤重复实验快速验证方法，其特征在于，所述氮化物层是氮化硅层。
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