[发明专利]槽加工头的集尘机构及槽加工装置有效
申请号: | 201510151662.3 | 申请日: | 2015-04-01 |
公开(公告)号: | CN105269389B | 公开(公告)日: | 2019-03-22 |
发明(设计)人: | 片桐直树 | 申请(专利权)人: | 三星钻石工业股份有限公司 |
主分类号: | B23Q11/00 | 分类号: | B23Q11/00 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 沈锦华 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 工头 集尘 机构 加工 装置 | ||
本案发明涉及一种槽加工头的集尘机构及槽加工装置。本发明的课题在于不使使用槽加工头进行槽加工时所产生的粉尘吸附在基板上便可进行抽吸。在槽加工头的底面板(33)的工具(32)突出的附近设置具有吸气口的集尘罩(40)。在使用槽加工头(30)对基板(W)进行槽加工时,利用鼓风机(35)并经由管道(34)抽吸集尘罩(40)的空气。如果这样,那么可将因槽加工而产生的粉尘在吸附在基板(W)之前吸入至集尘罩(40)的吸气口。
技术领域
本发明涉及一种用以集尘在薄膜太阳电池等的制造过程时等对薄膜进行槽加工时所产生的粉尘的槽加工头的集尘机构及槽加工装置。
背景技术
在集成型的薄膜太阳电池的制造步骤中,例如,如专利文献1所记载般,具有在基板上积层半导体薄膜并反复进行多次图案化的步骤。在该制造步骤中,在脆性材料基板上形成金属制的下部电极层,且作为图案化P1而利用激光束将电极层分割并划分成短条状。在其上形成P型光吸收层及缓冲层而制成积层型的半导体薄膜。其后,作为图案化P2,通过沿着自图案化P1的槽稍微偏移的线将缓冲层与P型光吸收层的一部分机械刻划而分割并划分成短条状。接下来,在缓冲层上形成包含金属氧化物的透明导电膜。接着,作为图案化P3,通过沿着自图案化P2的槽稍微偏移的线将透明导电膜,缓冲层及P型光吸收层的一部分机械刻划而划分成短条状。如此可制造薄膜的太阳电池。因此,需要使图案化P2,P3的线分别相对于图案化P1的线稍微偏移,且需要相对于1片基板而以例如5mm左右的间距形成百数十条平行的槽。
在专利文献2,3中揭示有太阳电池用的刻划装置。在专利文献2中设置有在刻划头的基底上保持加工工具的工具保持器、使工具保持器上下移动的气缸、及用以消除工具保持器的自重的弹簧等,并通过气缸一面调整负载一面将工具按压至工件。此外,在专利文献3中揭示有通过将多个头安装在横梁上的滑动机构而同时地进行多个刻划的刻划装置。
此外,在专利文献4中提出有为了排除工作机的切屑而在工作用头上设置了具有风扇的集尘机的集尘装置。
[背景技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2005-191167号公报
[专利文献2]日本专利特开2011-155151号公报
[专利文献3]日本专利特开2010-245255号公报
[专利文献4]日本专利特开平9-285939号公报
发明内容
[发明要解决的问题]
如专利文献1~3所示,在利用刻划器刻划图案化的线的情况下会产生粉尘。此时如果粉尘一旦吸附在薄膜太阳基板,那么会存在变得难以去除或者即便在去除了的情况下有时也会损伤基板表面的问题点。此外,专利文献4的集尘装置在旋转工具的周围设置了抽吸粉尘的抽吸头,但由于使风扇旋转,故而存在构造变得复杂的问题点。
本发明的目的在于提供一种可将因刻划而产生的粉尘在吸附在基板的表面之前有效地去除的槽加工头的集尘机构及使用了该集尘机构的槽加工装置。
[解决问题的技术手段]
为了解决此问题,本发明的槽加工头的集尘机构具备:槽加工头;集尘罩,设置在所述槽加工头的下部;以及集尘机,自所述集尘罩经由管道抽吸空气;所述槽加工头具有保持使刀尖位于下方的工具的工具保持器,所述集尘罩是上表面开放的壳体,且具有:开口,使所述槽加工头的工具突出;以及框状的隔断部,以与所述工具保持器之间隔开固定间隔的方式自所述开口部向上方设置;且以所述工具的前端自所述开口向下方突出的方式而安装。
此处,所述集尘罩也可将以设置在所述头的吸气口为中心的底面设为V字形。
此处,所述集尘罩的开口部及隔断部也可设为吸气口的端面的前端被切割成尖锐者。
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