[发明专利]阵列基板及其形成方法、显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

基板；所述基板上设置有绝缘交叉设置的数据线和扫描线；所述数据线包括第一数据线和第二数据线，所述第一数据线与所述扫描线同层设置；

所述第二数据线与所述扫描线及所述第一数据线之间设置有第一绝缘层；

所述第一绝缘层中设置有第一通孔，所述第二数据线通过所述第一通孔将相邻两端的所述第一数据线电连接；

所述基板还设置有相互电连接的第一信号线和公共电极，所述第一信号线与所述第二数据线同层绝缘设置。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一信号线包括主体部和弯折部，所述弯折部与所述第二数据线相邻设置；

所述第一信号线和所述公共电极之间设置有第二绝缘层，所述第二绝缘层中设置有第二通孔，所述公共电极通过所述第二通孔与所述第一信号线电连接；

所述阵列基板还包括像素电极。

3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述公共电极与像素电极不同层设置。

4.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述像素电极与所述第二数据线同层，所述公共电极在垂直于基板方向上与所述像素电极对置设置。

5.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述公共电极上还设有第三绝缘层，所述像素电极设于所述第三绝缘层上，所述像素电极与所述公共电极在垂直于基板方向上对置设置。

6.一种阵列基板的形成方法，其特征在于，包括：

提供基板；

在所述基板上形成绝缘交叉设置的扫描线和第一数据线，所述第一数据线与所述扫描线同层设置；

在所述第一数据线和扫面线上形成第一绝缘层，并在所述第一绝缘层中形成第一通孔；

在所述第一绝缘层上形成第二数据线，并使所述第二数据线通过所述第一通孔与所述第一数据线电连接；形成与所述第二数据线同层绝缘设置的第一信号线。

7.如权利要求6所述的阵列基板的形成方法，其特征在于，所述第一信号线包括主体部和弯折部，所述弯折部与所述第二数据线相邻设置；

在所述第二数据线和第一信号线上形成第二绝缘层，并在所述第二绝缘层中形成有第二通孔；

在所述第二绝缘层上形成公共电极，所述公共电极通过所述第二通孔与所述第一信号线电连接。

8.如权利要求6所述的阵列基板的形成方法，其特征在于，形成第一数据线以及扫描线的步骤包括：

在所述基板上形成第一导电材料层；

在所述第一导电材料层上形成第一光刻胶层；

提供具有图案的第一掩模版，并通过所述第一掩模版对所述第一光刻胶层进行曝光，以在所述第一光刻胶层中形成图案，部分第一导电材料层从所述第一光刻胶层的图案中露出；

以形成有图案的第一光刻胶层为刻蚀掩模，并刻蚀以去除露出部分的第一导电材料层，剩余的第一导电材料层分别形成所述第一数据线以及扫描线。

9.如权利要求6所述的阵列基板的形成方法，其特征在于，所述阵列基板的形成方法还包括：形成像素电极；

形成像素电极的步骤包括：在形成第一绝缘层的步骤之后，同时形成所述第二数据线、第一信号线以及像素电极：

在所述第一绝缘层上形成第二导电材料层；

在所述第二导电材料层上形成第二光刻胶层；

提供具有图案的第二掩模版，并通过所述第二掩模版对所述第二光刻胶层进行曝光，以在所述第二光刻胶层中形成图案，部分第二导电材料层从所述第二光刻胶层的图案中露出；

以形成有图案的第二光刻胶层为刻蚀掩模，并刻蚀以去除露出部分的第二导电材料层，剩余的第二导电材料层分别形成所述第二数据线、第一信号线以及像素电极。

10.如权利要求6所述的阵列基板的形成方法，其特征在于，所述阵列基板的形成方法还包括：形成像素电极；

形成像素电极的步骤包括：形成公共电极的步骤之后，在所述公共电极上形成第三绝缘层；

在所述第三绝缘层上形成所述像素电极，并使所述像素电极与所述公共电极在垂直于基板方向上对置设置。

11.如权利要求6所述的阵列基板的形成方法，其特征在于，所述阵列基板的形成方法还包括：形成像素电极；

形成像素电极的步骤包括：在所述第二绝缘层上同时形成所述像素电极和所述公共电极。

12.一种显示装置，其特征在于，包括：如权利要求1至5任一项所述的阵列基板。