[发明专利]1064纳米波段偏振无关高效率二维反射达曼光栅

权利要求书

1.一种1064纳米波段偏振无关高效率二维反射达曼光栅，其特征在于该二维反射达曼光栅是在熔融石英基底(5)上依次镀上100纳米三氧化二铝膜(4)、128纳米金膜(3)、三氧化二铝膜(2)和熔融石英膜(1)，其中三氧化二铝膜(2)为连接层，在所述的熔融石英膜(1)上刻蚀矩形槽光栅，该二维反射达曼光栅二维的周期相同且光栅周期为1917～1927纳米，达曼光栅相位突变点的坐标为归一化周期的0.265～0.275，光栅深度为730～740纳米，连接层厚度为92～102纳米。

2.根据权利要求1所述的偏振无关高效率二维反射达曼光栅，其特征在于所述的光栅的周期为1922纳米，达曼光栅相位突变点的坐标为归一化周期的0.27，光栅的刻蚀深度为734纳米，连接层厚度为97纳米。