[发明专利]可异地钢化的超高透单银Low-E镀膜玻璃

说明书

技术领域

本发明涉及一种可异地钢化的超高透单银Low-E镀膜玻璃。

背景技术

常规离线低辐射镀膜玻璃的膜系设计中，一般以NiCr合金作为功能层银层的保护层和光衰减层，这种合金材料对可见光的有一定的衰减作用，无法生产超高透低辐射镀膜玻璃（简称Low-E），使用该合金材料生产出来的低辐射镀膜玻璃的单片可见光透光率一般不超过80%，而对于透光率大于80%的超高透Low-E就毫无办法了，而有些产品透光率勉强达到80%后，产品的抗划伤能力较差，膜层附着力不牢固，产品无法进行热处理加工（俗称钢化处理），不利于后续加工。

发明内容

为了解决现有技术中很难生产超高透Low-E产品以及提高超高透产品的膜层附着力，加强膜层的抗划伤能力，本发明提供了一种具有较高可见光透过率，膜层结构稳定，抗划伤能力强，并可进行异地可钢化加工的膜系设计。

可异地钢化的超高透单银Low-E镀膜玻璃是在自基片玻璃向外依次设置有第一介质层、第二介质层、Ag层、阻挡层、第三介质层、第四介质层，其中第一介质层为ZnSnOx，第二介质层为ZnAlOx，阻挡层为Ti，第三介质层为ZnAlOx，第四介质层为TiOx。

与现有技术相比，本发明可以达到以下技术效果：

1、有较高的可见光透过率的同时保持较好的节能效果。

2、产品稳定，抗划伤能力强，可加工性能优异。

3、可进行热处理加工（钢化处理），基于该特性，本产品可采用先镀膜后钢化的生产工艺，提高生产效率，增加成品率。

附图说明

图1 传统的单银膜系。

图2 本发明的单银膜系。

具体实施方式

以下结合附图对本发明作进一步说明。

现有离线低辐射镀膜玻璃的膜系设计常规方案见图1：该膜系由于采用两层NiCr合金作为阻挡层保护Ag层，两层阻挡层对可见光有较高的衰减效果，使得该膜系无法生产高透和超高透产品（可见光透光率≥80%）。另外NiCr合金的功函数（约5.0eV）大于Ag的功函数（4.26eV），该Ag中的电子将迁移到NiCr层，导致Ag的导电能力下降，对红外的反射能力下降，表现为节能性能降低，不利于生产高性能的低辐射镀膜玻璃产品。

如图2所示，本发明是在现有的离线低辐射玻璃镀膜的膜系中采用ZnSnOx和ZnAlOx作为基层，有助于提高产品的节能性能。金属Ti替换原有的合金材料NiCr，并在Ti层后面加镀ZnAlOx材料，在膜系最外层保护层使用具有较强机械性能的TiO₂材料。

本发明针对Ag的特性，取消阻挡层1，以ZnSnOx和ZnAlOx材料作为基层并与Ag层形成较好的接触，具有良好的膜层附着力，使得ZnAlOx层和Ag层直接接触。另外将阻挡层2材料更换为功函数更低的Ti层（4.33eV），并在Ti外镀上ZnAlOx层，由于ZnAlOx的功函数（约4.1）低于Ti和Ag， 介质层2的ZnAlOx中的电子将往Ag层中迁移，介质层3中ZnAlOx的电子将往Ti中迁移，整体提高功能层Ag的导电性能，对红外的反射上升，表现为节能性能的提高。另外该膜层结构在进行钢化热处理的时候，ZnAlOx可将金属Ti层完全氧化，减少了膜层的光衰减，使得膜系产品的有较高的可见光透过率，采用具有较好机械性能、高折射率的TiOx最为膜层的保护层，一方面可以提高产品的抗划伤能力，另一方面较高的折射率能够进一步产品的减反射效果，增加产品的可见光透过率。

以下为其中的一种实施例：

TiOx：40-50nm

ZnAlOx：13-17nm

Ti：1-2nm

Ag：8-12nm

ZnAlOx：13-17nm

SiAlNx：22-28nm

使用本发明设计膜系制造的中空玻璃（6Low-E+12A+6C）的光学和节能参数如下：

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