[发明专利]一种实现电解液水平流动及流速可控的电解池系统

权利要求书

1.一种实现电解液水平流动及流速可控的电解池系统，包括电解池池体、工作电极、泵、流量计和储液槽，其特征在于，所述电解池池体由具有长方形截面的流道及设置于流道上方的围堰构成，所述流道两端相对应地设置有由方管渐变过渡为圆管的进口整流管和出口整流管，所述围堰内设置有与流道相连通的工作电极插口，所述工作电极插口正下方的流道底部镶嵌有与流道平齐的辅助电极；

所述工作电极通过工作电极插口插入电解池池体形成有封闭的长方形流道，所述工作电极的下表面设置有矩形凸台，矩形凸台内设置有突出于工作电极上表面的L形导电金属，L形导电金属的下方连接有与所述矩形凸台下表面形成有基材凹槽的导电金属块，所述导电金属块与矩形凸台之间形成的缝隙内填充有密封胶，所述基材凹槽其中相对应的两侧设置有导电孔，位于导电孔正上方的工作电极上表面设置有与导电孔相连通的矩形凹槽，矩形凹槽内灌注有导电琼脂；

所述进口整流管通过软管依次连接有流量计、泵、流量阀和储液槽的出口管，所述出口整流管通过软管与储液槽的进口管相连接，所述储液槽还设置有带有阀门的排气管和排液管。

2.根据权利要求1所述的一种实现电解液水平流动及流速可控的电解池系统，其特征在于，所述导电孔的孔径在1mm以下。

3.根据权利要求1所述的一种实现电解液水平流动及流速可控的电解池系统，其特征在于，所述储液槽的布置低于本系统中的其他装置。

4.根据权利要求1所述的一种实现电解液水平流动及流速可控的电解池系统，其特征在于，所述排液管设置于储液槽的底端。

5.根据权利要求1所述的一种实现电解液水平流动及流速可控的电解池系统，其特征在于，所述工作电极上表面还设置有磁铁凹槽。

6.根据权利要求1所述的一种实现电解液水平流动及流速可控的电解池系统，其特征在于，所述基材凹槽内设置有与矩形凸台下表面平齐的金属基材。

7.根据权利要求1所述的一种实现电解液水平流动及流速可控的电解池系统，其特征在于，所述辅助电极为钛辅助电极且突出于电解池池体侧边。

8.根据权利要求1所述的一种实现电解液水平流动及流速可控的电解池系统，其特征在于，所述基材凹槽的凹陷深度为8‐100微米。

9.根据权利要求1所述的一种实现电解液水平流动及流速可控的电解池系统，其特征在于，所述导电金属均由铜构成。