[发明专利]一种腔室清洁装置及其控制方法有效

专利信息
申请号: 201510159416.2 申请日: 2015-04-03
公开(公告)号: CN104707811B 公开(公告)日: 2017-03-08
发明(设计)人: 胡瑾;孟祥明;节昌凯 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: B08B1/04 分类号: B08B1/04;B08B1/00;B08B13/00
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 代理人: 申健
地址: 230012 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 清洁 装置 及其 控制 方法
【权利要求书】:

1.一种腔室清洁装置,用于对腔室进行清洁,其特征在于,包括用于提供控制信号的控制器、供给设备,以及设置于所述腔室内部的清洁轨道;

所述供给设备通过输送入口与所述清洁轨道的起始端相连接,并通过输送出口与所述清洁轨道的末端相连接;

所述供给设备设置有第一工位和第二工位,所述第一工位与所述输送入口相对应,所述第二工位与所述输送出口相对应;

所述供给设备包括至少两个卷轴,以及部分位于所述清洁轨道上的清洁布,位于所述第一工位的卷轴与所述清洁布的一端相连接,用于将所述清洁布从所述输送入口传送至所述清洁轨道上,位于所述第二工位的卷轴与所述清洁布的另一端相连接,用于将穿过所述输送出口的清洁布进行收集。

2.根据权利要求1所述的腔室清洁装置,其特征在于,所述供给设备还包括环形的供给导轨;

所述第一工位和所述第二工位设置于所述供给导轨上;

所述卷轴安装于所述供给导轨上,并在所述控制器的控制下,沿所述供给导轨进行移动。

3.根据权利要求2所述的腔室清洁装置,其特征在于,还包括还原设备;所述还原设备内设置有还原导轨,所述还原导轨通过还原入口和还原出口与所述供给导轨相连接;所述还原设备用于对位于所述还原导轨上的清洁布进行还原处理。

4.根据权利要求3所述的腔室清洁装置,其特征在于,所述供给设备还包括卷轴驱动部件,用于接收所述控制器的控制信号,并驱动所述卷轴沿所述供给导轨和所述还原导轨移动。

5.根据权利要求1所述的腔室清洁装置,其特征在于,所述供给设备还包括第一更换单元和第二更换单元;

所述第一更换单元设置于所述输送入口与所述第一工位之间,用于将相邻两卷所述清洁布的末端和起始端相连接;

所述第二更换单元设置于所述输送出口与所述第二工位之间,用于将相连接的两卷所述清洁布的末端与起始端分开;或用于将所述输送出口处的清洁布的起始端与位于所述第二工位的未安装清洁布的卷轴相连接。

6.根据权利要求1所述的腔室清洁装置,其特征在于,所述清洁轨道包括至少一个位置调节器,所述位置调节器沿预设轨迹分布于所述腔室内部;

所述位置调节器包括沿竖直方向设置的竖直调节部件、沿水平方向设置的水平调节部件以及沿竖直方向设置的,用于支撑所述清洁布的导向部件;

所述竖直调节部件与所述水平调节部件通过与沿竖直方向设置的第一转轴相连接,所述第一旋转轴用于带动所述水平调节部件以所述竖直调节部件为中心进行旋转;

所述竖直调节部件在竖直方向上的长度可调,所述水平调节部件在水平方向上的长度可调;

所述导向部件通过沿竖直方向设置的第二转轴与所述水平调节部件相连接,在所述第二转轴的带动下进行旋转。

7.根据权利要求6所述的腔室清洁装置,其特征在于,

所述竖直调节部件或所述水平调节部件的长度调节范围为0.1m~3m。

8.根据权利要求1所述的腔室清洁装置,其特征在于,还包括至少一个检测器,用于对所述清洁轨道上的清洁布的吸附饱和量进行检测,当所述吸附饱和量达到所述检测器的设定阈值时,向所述控制器发送预警信号。

9.一种腔室清洁装置的控制方法,用于控制如权利要求1-8任一项所述的腔室清洁装置的方法,其特征在于,所述方法包括:

将第一卷轴位于第一工位,第二卷轴位于第二工位;

将所述第一卷轴上的第一清洁布的起始端与所述第二卷轴相连接;其中,所述第一清洁布的末端与所述第一卷轴相连接;

所述第一卷轴进行旋转,将所述第一清洁布从输送入口传送至清洁轨道上;

所述清洁轨道将所述第一清洁布展开,所述第一清洁布沿所述清洁轨道对腔室进行清洁;

所述第二卷轴进行旋转,将所述第一清洁布进行收集。

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