[发明专利]一种基于PLC的ICP等离子体加工机床腔体气压控制方法

权利要求书

1.一种基于PLC的ICP等离子体加工机床腔体气压控制方法，其特征在于所述方法步骤如下：

步骤一：加工前，将工件放置在位移平台上，关闭机床密封门，确保各处接线正常后给等离子体加工机床和各个控制器上电，通过操作面板上按钮，使得机床进入调试状态，此时电磁开关阀处于关闭状态；

步骤二：打开气瓶开关，反应气体在气管中经由机床外壳、机床密封腔体输送到等离子体反应炬；与此同时，压力传感器采集机床腔体压力，以模拟电压的形式通过模拟量输入输出模块将信号传递给PLC，由PLC内部PID运算，将控制信号以模拟量电压的形式再次通过模拟量输入输出模块传递给可调排量排气泵，可调排量排气泵不断调节排量，使得机床腔体压力维持在大气压下；

步骤三：操作员给等离子体反应炬通电，产生稳定加工火焰之后，通过操作面板按钮告知PLC机床已进入加工状态，而后位移平台开始运动，进入加工工件环节；

步骤四：待工件加工完毕后，通过操作面板按钮使得机床进入清理状态，此时等离子反应炬断电，关闭气瓶，PLC通过控制继电器将电磁开关阀打开，使得机床腔体与大气连通，然后打开大排量抽气泵，将机床腔体内的反应气体抽排干净，并且将这些气体进行必要的尾气处理；

步骤五：当清理状态结束后，按顺序进行掉电，完成一个零件的加工。

2.根据权利要求1所述的基于PLC的ICP等离子体加工机床腔体气压控制方法，其特征在于所述抽排时间设定为15min。