[发明专利]取向层的摩擦取向方法在审

专利信息
申请号: 201510160160.7 申请日: 2015-04-07
公开(公告)号: CN104749822A 公开(公告)日: 2015-07-01
发明(设计)人: 谢畅 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人: 林才桂
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 取向 摩擦 方法
【权利要求书】:

1.一种取向层的摩擦取向方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤1、提供基板(10),在所述基板(10)上涂覆取向层(4);

步骤2、提供摩擦滚轮(5),使用所述摩擦滚轮(5)按照第一摩擦方向对所述取向层(4)进行第一次摩擦取向;

步骤3、使用所述摩擦滚轮(5)按照第二摩擦方向对所述取向层(4)进行第二次摩擦取向,所述第二摩擦方向与所述第一摩擦方向相反。

2.如权利要求1所述的取向层的摩擦取向方法,其特征在于,所述步骤3能够消除步骤2产生的摩擦阴影(42)。

3.如权利要求1所述的取向层的摩擦取向方法,其特征在于,所述步骤2、与步骤3可重复进行多次。

4.如权利要求1所述的取向层的摩擦取向方法,其特征在于,在所述步骤2与步骤3中,所述摩擦滚轮(5)的中心处于同一水平面。

5.如权利要求1所述的取向层的摩擦取向方法,其特征在于,所述基板(10)为CF基板,该CF基板具有多个呈阵列式排布的像素,每一像素包括红(R)、绿(G)、蓝(B)、空白(W)四个子像素;对应所述红(R)、绿(G)、蓝(B)子像素设有相同厚度的色阻,对应所述空白(W)子像素为空白区域,一黑色矩阵(3)将所述红(R)、绿(G)、蓝(B)、空白(W)子像素间隔开;

所述取向层(4)涂覆于所述红(R)、绿(G)、蓝(B)、空白(W)子像素及黑色矩阵(3)上,且所述取向层(4)在所述空白(W)子像素上方形成凹陷区域(41)。

6.如权利要求1所述的取向层的摩擦取向方法,其特征在于,所述摩擦滚轮(5)包括滚轮本体(51)、及固定于所述滚轮本体(51)外周面的摩擦布(53),通过所述滚轮本体(51)带动所述摩擦布(53)对所述取向层(4)进行摩擦取向。

7.如权利要求6所述的取向层的摩擦取向方法,其特征在于,所述摩擦布(53)的材料为纤维。

8.如权利要求6所述的取向层的摩擦取向方法,其特征在于,所述摩擦布(53)的材料为尼龙。

9.如权利要求6所述的取向层的摩擦取向方法,其特征在于,所述摩擦布(53)的材料为棉绒。

10.如权利要求1所述的取向层的摩擦取向方法,其特征在于,所述取向层(4)的材料为聚酰亚胺。

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