[发明专利]导电图形的制作方法及导电膜有效
| 申请号： | 201510164153.4 | 申请日： | 2015-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN104851516B | 公开（公告）日： | 2017-08-25 |
| 发明（设计）人： | 苏君海;李建;王荣超;任思雨;李建华 | 申请（专利权）人： | 信利（惠州）智能显示有限公司 |
| 主分类号： | H01B13/00 | 分类号： | H01B13/00;H01B5/14 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 | 代理人： | 吴平 |
| 地址： | 516000 广东省惠州市仲*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 导电 图形 制作方法 | ||
1.一种导电图形的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
在基板上形成导电层；
在所述导电层上形成非晶金属氧化物；
对所述非晶金属氧化物的预定区域进行激光退火处理，使所述预定区域的非晶金属氧化物形成多晶金属氧化物；
对预定区域外的非晶金属氧化物进行第一次刻蚀处理，以除去所述预定区域外的所述非晶金属氧化物；
对所述预定区域外的导电层进行第二次刻蚀处理，形成导电图形。
2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述非晶金属氧化物为氧化铟锡、氧化锡、氧化铟锡锌或氧化铟镓锌的至少一种。
3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述第一次刻蚀处理，所采用的刻蚀液为草酸溶液。
4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述导电层包括至少一层金属薄膜。
5.根据权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述金属薄膜的材料为Al、Mo、Ag、Ti及W的至少一种。
6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述第二次刻蚀处理，所采用的刻蚀液为磷酸、醋酸、硝酸和水的混合液。
7.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述非晶金属氧化物的厚度为25nm～200nm。
8.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述对所述非晶金属氧化物的预定区域进行激光退火处理的步骤包括：利用激光光源照射所述非晶金属氧化物的预定区域。
9.根据权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述激光光源为激光点光源。
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