[发明专利]非金属图案的制作方法

说明书

一种非金属图案的制作方法，其包括如下步骤：在基板上形成非金属刻蚀层；在所述非金属刻蚀层上形成非晶金属氧化物；对所述非晶金属氧化物的预定区域进行激光退火处理，使所述预定区域的非晶金属氧化物形成多晶金属氧化物；对预定区域外的非晶金属氧化物进行第一次刻蚀处理，对所述预定区域外的非金属刻蚀层进行第二次刻蚀处理；去除所述预定区域的多晶金属氧化物，形成非金属图案。与现有技术相比，上述非金属图案的制作方法减少了涂胶、曝光、显影、脱膜等一系列步骤，缩短了生产周期，降低了生产成本，而且实现了在不使用曝光掩膜板的条件下的产品生产，减少了物料的耗损及设备的投入，避免了有机试剂的使用，并减少了对环境的污染。

技术领域

本发明涉及触控显示技术领域，特别是涉及一种非金属图案的制作方法。

背景技术

在OLED、LCD及TP的制作过程中，常需要对单层非金属或多层非金属材料进行图形化，例如在OLED的制作过程中，需要对含硅材料进行图形化，以形成OLED的半导体层、介电层、缓冲层、绝缘层或平坦化层等。

目前，非金属图案的生产制造通常采用以下工艺流程：镀膜→涂胶→曝光→显影→刻蚀→脱膜。图1为现有技术中非金属图案的制作工艺流程。请参阅图1，该非金属图案的制作方法主要包括：

1、在基板上沉积非金属刻蚀层；

2、在非金属刻蚀层上涂覆光刻胶；

3、利用掩膜板，对光刻胶进行曝光；

4、对光刻胶进行显影；

5、对非金属刻蚀层进行刻蚀处理；

6、通过脱膜工艺除去光刻胶。

然而，上述生产工序流程繁琐，生产周期较长，而且在制作过程中使用的光刻胶、稀释剂、显影液、剥离液等材料都是有机材料，有一定的毒性，对人体具有较大的危害性，对环境污染较大，同时，上述制备过程所消耗的成本较高、设备投入大、物料损耗较多。

发明内容

基于此，有必要针对上述问题，提供一种非金属图案的制作方法，不仅可有效缩短生产周期，降低成本，减少环境污染及设备投入。

一种非金属图案的制作方法，包括如下步骤：

在基板上形成非金属刻蚀层；

在所述非金属刻蚀层上形成非晶金属氧化物；

对所述非晶金属氧化物的预定区域进行激光退火处理，使所述预定区域的非晶金属氧化物形成多晶金属氧化物；

对预定区域外的非晶金属氧化物进行第一次刻蚀处理，以除去所述预定区域外的所述非晶金属氧化物；

对所述预定区域外的非金属刻蚀层进行第二次刻蚀处理，以除去所述预定区域外的非金属刻蚀层；

去除所述预定区域的多晶金属氧化物，形成非金属图案。

在其中一个实施例中，所述非晶金属氧化物为氧化铟锡、氧化锡、氧化铟锡锌或氧化铟镓锌的至少一种。

在其中一个实施例中，所述第一次刻蚀处理，所采用的刻蚀液为草酸溶液。

在其中一个实施例中，所述非金属刻蚀层为含硅材料层或OC胶层。

在其中一个实施例中，所述第二次刻蚀处理为干法刻蚀。

在其中一个实施例中，所述干法刻蚀所采用的刻蚀气体包括Ar、O₂、CO、CO₂、H₂、SF₆、C_xF_y或C_xF_yH_z中的一种或者几种。