[发明专利]流体喷射装置在审

专利信息
申请号: 201510164740.3 申请日: 2015-04-09
公开(公告)号: CN104970854A 公开(公告)日: 2015-10-14
发明(设计)人: 旭常盛;五味正挥;内田和见 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: A61B17/3203 分类号: A61B17/3203
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 田喜庆;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 流体 喷射 装置
【权利要求书】:

1.一种流体喷射装置,其特征在于,包括:

流体喷射部,其喷射脉动状的流体;

流体供给部,其具有容纳规定压力以上的压力的流体的流体容纳部,且将容纳在该流体容纳部的流体供给至所述流体喷射部;

连接流路,其连接所述流体喷射部和所述流体容纳部,并成为流体流动的流路;

开闭部,其打开和关闭所述连接流路;以及

控制部,其对所述开闭部发送用于使所述连接流路开放的开放信号,对所述流体喷射部发送用于喷射流体的喷射信号,

所述控制部从发送所述开放信号起经过规定时间后,发送所述喷射信号。

2.根据权利要求1所述的流体喷射装置,其特征在于,

所述控制部在发送所述开放信号之后、发送所述喷射信号之前,对所述流体供给部所具有的、加压所述流体容纳部的加压部进行驱动,从而将流体供给至所述流体喷射部。

3.根据权利要求1或2所述的流体喷射装置,其特征在于,

当设比所述规定压力高的压力为目标压力,所述规定压力为第一下限压力,比所述目标压力高的压力为第一上限压力,比所述第一下限压力高、且比所述目标压力低的压力为第二下限压力,比所述第一上限压力低、且比所述目标压力高的压力为第二上限压力,从所述第一下限压力至所述第一上限压力的压力范围为第一压力范围,从所述第二下限压力至所述第二上限压力的压力范围为第二压力范围,所述第一压力范围及所述第二压力范围的各自的中心值为所述目标压力时,所述控制部进行用于使所述流体容纳部内的流体的压力为所述第二压力范围内的压力的控制,

当所述流体容纳部内的流体的压力为所述第一压力范围内的压力时,所述控制部发送所述开放信号及所述喷射信号。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的流体喷射装置,其特征在于,

所述控制部以接收到指示流体喷射的送液信号为条件,发送所述开放信号及所述喷射信号,并且,

当所述流体容纳部内的流体没有达到所述规定压力以上的压力时,即使接收到所述送液信号也不发送所述开放信号,

当所述流体容纳部内的流体达到所述规定压力以上的压力时,在接收到所述送液信号后,发送所述开放信号。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的流体喷射装置,其特征在于,

在发送所述开放信号前,所述控制部用流体充满所述连接流路,在所述流体喷射部喷射流体后,所述控制部控制所述流体容纳部内的流体的压力成为所述规定压力以上。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的流体喷射装置,其特征在于,

接收到所述喷射信号的所述流体喷射部使用随电压变化而变形的压电元件喷射流体。

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