[发明专利]基于双模正方形微腔激光器的可调谐光频梳有效

专利信息
申请号: 201510166090.6 申请日: 2015-04-09
公开(公告)号: CN104765217B 公开(公告)日: 2017-11-17
发明(设计)人: 龙衡;黄永箴;马秀雯;邹灵秀;肖金龙;杨跃德 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: G02F1/365 分类号: G02F1/365;G02F1/35
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 基于 双模 正方形 激光器 调谐 光频梳
【权利要求书】:

1.一种基于双模正方形微腔激光器的可调谐光频梳,包括:

双模正方形微腔激光器(1),用于产生间距可调的双模激射;

光纤放大器(2),其输入端与双模正方形微腔激光器(1)输出端相连,用于将光信号放大;

高非线性光纤(3),与光纤放大器(2)输出端相连,利用其级联四波混频效应展宽获得可调谐光频梳,其特征在于:

所述的双模正方形微腔激光器(1)包括:

衬底(11);

正方形微腔(12);

输出波导(13),与正方形微腔(12)直接相连或者通过消逝波侧向耦合输出光;

电注入窗口(14),形成于正方形微腔(12)顶部,非注入区域由介质层(15)覆盖,其中电注入窗口(14)的形状被设置为从该电注入窗口(14)注入电流会产生不均匀的载流子分布或者温度分布;

p型和n型电极。

2.根据权利要求1所述的基于双模正方形微腔激光器的可调谐光频梳,其中双模正方形微腔激光器(1)的正方形微腔(12)和输出波导(13)都包括:下限制层(121)、有源层(122)和上限制层(123),下限制层(121)和上限制层(123)的材料为InP、AlAs、AlGaN或GaN,有源层(122)材料为InGaAs、InGaAsP或AlGaInAs;下限制层(121)生长或者键合在衬底(11)上,有源层(122)生长在下限制层(121)上。

3.根据权利要求1所述的基于双模正方形微腔激光器的可调谐光频梳,其中所述介质层(15)的材料是二氧化硅或者氮化硅。

4.根据权利要求1所述的基于双模正方形微腔激光器的可调谐光频梳,其中所述衬底(11)的材料是IV族半导体材料及其化合物、III-V、II-VI、IV-VI族化合物、有机半导体材料或蓝宝石。

5.根据权利要求1所述的基于双模正方形微腔激光器的可调谐光频梳,其中所述正方形微腔(12)边长a介于5~100μm之间,输出波导(13)宽度wg介于0~a/5之间,可通过改变正方形微腔(12)边长来改变双模间距,从而控制双模工作范围。

6.根据权利要求2所述的基于双模正方形微腔激光器的可调谐光频梳,其中所述电注入窗口(14)为方环形或者圆环形,也可以用该类形状的电极替代。

7.根据权利要求1所述的基于双模正方形微腔激光器的可调谐光频梳,其中所述双模正方形微腔激光器(1)的输出光在进入高非线性光纤(3)之前,经过一级或者多级光纤放大器(2)放大光功率。

8.根据权利要求1所述的一种基于双模正方形微腔激光器的可调谐光频梳,其中所述双模正方形微腔激光器(1)的输出光在进入高非线性光纤(3)之前,采用光滤波器滤去其它模式及噪声。

9.根据权利要求1至8任一项所述的基于双模正方形微腔激光器的可调谐光频梳,其中所述双模正方形微腔激光器(1)是用于产生可调谐微波信号。

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