[发明专利]图案形成方法、硬化物、触摸屏或显示屏的制造方法以及显示装置在审
申请号: | 201510170283.9 | 申请日: | 2015-04-10 |
公开(公告)号: | CN104977813A | 公开(公告)日: | 2015-10-14 |
发明(设计)人: | 中村秀之;金子若彦;柏木大助;山下史絵 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F7/00 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨贝贝;臧建明 |
地址: | 日本东京港区*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图案 形成 方法 硬化 触摸屏 显示屏 制造 以及 显示装置 | ||
1.一种图案形成方法,其特征在于包括:
将感光性树脂组合物涂布在基板上的涂布工序、
从所涂布的感光性树脂组合物中除去溶剂的溶剂除去工序、
使用掩模利用活性辐射线进行曝光的曝光工序、及
利用水性显影液进行显影的显影工序,并且
所述曝光工序中所用的掩模,沿着第一遮光部图案的外边而平行地设置第二遮光部图案,
所述第二遮光部图案将所述第一遮光部图案包围一周,
所述第一遮光部图案的外边与所述第二遮光部图案的内边的距离A、与所述第二遮光部图案的内边与外边的宽度B的关系满足下述式I,且
所述第二遮光部图案的内边与外边的宽度B为1μm~10μm,
0.5≤B/A≤0.75 式I。
2.一种图案形成方法,其特征在于包括:
将感光性树脂组合物涂布在基板上的涂布工序、
从所涂布的感光性树脂组合物中除去溶剂的溶剂除去工序、
使用掩模利用活性辐射线进行曝光的曝光工序、及
利用水性显影液进行显影的显影工序,并且
所述曝光工序中所用的掩模,沿着第一透光部图案的外边而平行地设置第二透光部图案,
所述第二透光部图案将所述第一透光部图案包围一周,
所述第一透光部图案的外边与所述第二透光部图案的内边的距离A、和所述第二透光部图案的内边与外边的宽度B的关系满足下述式I,且
所述第二透光部图案的内边与外边的宽度B为1μm~10μm,
0.5≤B/A≤0.75 式I。
3.根据权利要求1或2所述的图案形成方法,其中在所述曝光工序中,使用非接触式的曝光方法。
4.根据权利要求1或2所述的图案形成方法,其中在所述曝光工序中,所述感光性树脂组合物的涂布面与掩模的距离为10μm以上且500μm以下。
5.根据权利要求1或2所述的图案形成方法,其中所述感光性树脂组合物含有粒子。
6.根据权利要求5所述的图案形成方法,其中相对于感光性树脂组合物的总固体成分,所述粒子的含有率为30质量%以上。
7.根据权利要求1或2所述的图案形成方法,其特征在于:第一遮光部图案或第一透光部图案的一边的长度为10μm~500μm。
8.一种硬化物,其是通过根据权利要求1或2所述的图案形成方法而获得。
9.根据权利要求8所述的硬化物,其为层间绝缘膜。
10.一种触摸屏的制造方法,其使用根据权利要求1或2所述的图案形成方法。
11.一种显示屏的制造方法,其使用根据权利要求1或2所述的图案形成方法。
12.一种显示装置,其具备通过根据权利要求10所述的触摸屏的制造方法所制造的触摸屏或通过根据权利要求11所述的显示屏的制造方法所制造的显示屏。
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