[发明专利]图案形成方法、硬化物、触摸屏或显示屏的制造方法以及显示装置在审

专利信息
申请号: 201510170283.9 申请日: 2015-04-10
公开(公告)号: CN104977813A 公开(公告)日: 2015-10-14
发明(设计)人: 中村秀之;金子若彦;柏木大助;山下史絵 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F7/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨贝贝;臧建明
地址: 日本东京港区*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 图案 形成 方法 硬化 触摸屏 显示屏 制造 以及 显示装置
【权利要求书】:

1.一种图案形成方法,其特征在于包括:

将感光性树脂组合物涂布在基板上的涂布工序、

从所涂布的感光性树脂组合物中除去溶剂的溶剂除去工序、

使用掩模利用活性辐射线进行曝光的曝光工序、及

利用水性显影液进行显影的显影工序,并且

所述曝光工序中所用的掩模,沿着第一遮光部图案的外边而平行地设置第二遮光部图案,

所述第二遮光部图案将所述第一遮光部图案包围一周,

所述第一遮光部图案的外边与所述第二遮光部图案的内边的距离A、与所述第二遮光部图案的内边与外边的宽度B的关系满足下述式I,且

所述第二遮光部图案的内边与外边的宽度B为1μm~10μm,

0.5≤B/A≤0.75   式I。

2.一种图案形成方法,其特征在于包括:

将感光性树脂组合物涂布在基板上的涂布工序、

从所涂布的感光性树脂组合物中除去溶剂的溶剂除去工序、

使用掩模利用活性辐射线进行曝光的曝光工序、及

利用水性显影液进行显影的显影工序,并且

所述曝光工序中所用的掩模,沿着第一透光部图案的外边而平行地设置第二透光部图案,

所述第二透光部图案将所述第一透光部图案包围一周,

所述第一透光部图案的外边与所述第二透光部图案的内边的距离A、和所述第二透光部图案的内边与外边的宽度B的关系满足下述式I,且

所述第二透光部图案的内边与外边的宽度B为1μm~10μm,

0.5≤B/A≤0.75   式I。

3.根据权利要求1或2所述的图案形成方法,其中在所述曝光工序中,使用非接触式的曝光方法。

4.根据权利要求1或2所述的图案形成方法,其中在所述曝光工序中,所述感光性树脂组合物的涂布面与掩模的距离为10μm以上且500μm以下。

5.根据权利要求1或2所述的图案形成方法,其中所述感光性树脂组合物含有粒子。

6.根据权利要求5所述的图案形成方法,其中相对于感光性树脂组合物的总固体成分,所述粒子的含有率为30质量%以上。

7.根据权利要求1或2所述的图案形成方法,其特征在于:第一遮光部图案或第一透光部图案的一边的长度为10μm~500μm。

8.一种硬化物,其是通过根据权利要求1或2所述的图案形成方法而获得。

9.根据权利要求8所述的硬化物,其为层间绝缘膜。

10.一种触摸屏的制造方法,其使用根据权利要求1或2所述的图案形成方法。

11.一种显示屏的制造方法,其使用根据权利要求1或2所述的图案形成方法。

12.一种显示装置,其具备通过根据权利要求10所述的触摸屏的制造方法所制造的触摸屏或通过根据权利要求11所述的显示屏的制造方法所制造的显示屏。

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