[发明专利]KDP晶体磁流变抛光后的清洗方法有效
| 申请号： | 201510171285.X | 申请日： | 2015-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN106140671B | 公开（公告）日： | 2021-04-30 |
| 发明（设计）人： | 王超;王宝瑞;吉方;黄文;何建国;李晓媛;汤光平;张云飞;魏齐龙;罗清;郑永成;朱元庆 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B3/12;B08B3/08 |
| 代理公司： | 中国工程物理研究院专利中心 51210 | 代理人： | 翟长明;韩志英 |
| 地址： | 621999 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | kdp 晶体 流变 抛光 清洗 方法 | ||
【权利要求书】：
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