[发明专利]一种宽带表面等离激元辐射器有效
| 申请号： | 201510173346.6 | 申请日： | 2015-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN104852254B | 公开（公告）日： | 2018-03-20 |
| 发明（设计）人： | 崔铁军;尹佳媛;张浩驰 | 申请（专利权）人： | 东南大学 |
| 主分类号： | H01S1/02 | 分类号： | H01S1/02 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 210096*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 宽带 表面 离激元 辐射器 | ||
1.一种宽带表面等离激元辐射器，包括介质基底(3)和金属结构，其特征在于，所述金属结构包括分别附着在所述介质基底(3)的上、下层的上层金属带(1)和下层金属带(2)，所述上层金属带(1)和所述下层金属带(2)上沿金属带延伸方向均依次设置有第一单边褶皱带线、第二单边褶皱带线、第三单边褶皱带线，第二单边褶皱带线上开设有等间隔的等宽等深凹槽，第一单边褶皱带线上开设有等间隔等宽凹槽，凹槽深度随着金属带延伸方向逐渐加深直至与第二单边褶皱带线上的凹槽深度相同，第三单边褶皱带线上设有等间隔等宽凹槽，凹槽深度随着金属带的延伸方向逐渐减少至零，所述第二单边褶皱带线上的凹槽和所述第三单边褶皱带线上的凹槽的槽底处于同一水平线。
2.根据权利要求1所述的宽带表面等离激元辐射器，其特征在于，所述上层金属带(1)和所述下层金属带(2)在所述介质基底(3)的上层和下层对踵放置，金属带上的单边褶皱带线部分相对放置，并在金属带延伸方向形成开口，在所述金属结构上依次形成微带传输线馈电部分(10)、表面等离激元波导部分(12)以及所述微带传输线馈电部分到所述表面等离激元波导的过渡部分(11)和表面等离激元辐射部分(13)，所述微带传输线馈电部分(10)所包含的所述上层金属带(1)的宽度小于所述下层金属带(2)的宽度；所述过渡部分(11)包括所述第一单边褶皱带线；所述表面等离激元波导部分(12)包括所述第二单边褶皱带线；所述表面等离激元辐射部分(13)包括所述第三单边褶皱带线和所述开口。
3.根据权利要求1所述的宽带表面等离激元辐射器，其特征在于，所述第一、第二、第三单边褶皱带线的凹槽均为矩形且间隔和宽度相同。
4.根据权利要求3所述的宽带表面等离激元辐射器，其特征在于，所述第二单边褶皱带线的凹槽宽度为1.2mm，深度为1.2mm，凹槽间隔为2.5mm。
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