[发明专利]一种显示基板的制作方法、显示基板和显示装置

权利要求书

1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括形成黑矩阵的步骤，所述形成黑矩阵的步骤具体包括：

形成用于制作所述黑矩阵的金属图形，所述金属图形采用两性金属或两性金属合金；

采用碱性溶液对所述金属图形进行处理，形成具有粗糙表面的所述黑矩阵；

在形成用于制作所述黑矩阵的金属图形之后，所述方法还包括：

在未剥离第一光刻胶的所述金属图形上形成第一膜层；

剥离所述第一光刻胶，以剥离在所述第一光刻胶上方区域的所述第一膜层；

在所述第一膜层余下的部分上涂覆第二光刻胶，并对所述第二光刻胶进行曝光；

所述采用碱性溶液对所述金属图形进行处理，形成具有粗糙表面的所述黑矩阵具体为：

利用对曝光后的所述第二光刻胶进行显影的碱性显影液对所述金属图形进行处理，形成具有粗糙表面的所述黑矩阵。

2.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述两性金属为铝、锌或铍。

3.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述碱性溶液为四甲基氢氧化铵TMAH或氢氧化钾KOH溶液，所述碱性溶液的浓度为0.01％-5％。

4.如权利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述碱性溶液为浓度是0.04％的KOH溶液。

5.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述显示基板为COA基板。

6.如权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述第一膜层为用于形成像素电极或公共电极的透明导电层。

7.一种采用如权利要求1-6中任一项所述制作方法制作的显示基板，其特征在于，所述显示基板上形成有具有粗糙表面的金属黑矩阵。

8.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求7所述的显示基板。