[发明专利]图案偏振膜及其制造方法有效
申请号: | 201510178427.5 | 申请日: | 2015-04-15 |
公开(公告)号: | CN105022111B | 公开(公告)日: | 2020-03-06 |
发明(设计)人: | 幡中伸行 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 葛凡 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图案 偏振 及其 制造 方法 | ||
1.一种图案偏振膜,该图案偏振膜中层叠有基材、以及含有聚合性液晶化合物的聚合物及二色性色素的经图案化后的液晶固化膜,所述二色性色素包含3种以上的偶氮色素,
所述图案偏振膜具有:
一个以上的偏振度为10%以下且单体透射率为80%以上的区域(A)、和
一个以上的偏振度为90%以上且单体透射率为40%以上的区域(B)。
2.如权利要求1所述的图案偏振膜,其中,
区域(B)具有所述液晶固化膜。
3.如权利要求1或2所述的图案偏振膜,其中,
区域(A)以及区域(B)各自独立地呈选自线状、带状、圆状、文字状和图形状中的至少一种形状。
4.如权利要求3所述的图案偏振膜,其中,
区域(A)为线状,宽度为1μm~10mm。
5.如权利要求3所述的图案偏振膜,其中,
区域(B)为线状,宽度为1μm~10mm。
6.如权利要求3所述的图案偏振膜,其中,
各区域(A)具有带状、圆状、文字状或图形状的形状,连续的区域(A)的面积为500mm2以下。
7.如权利要求3所述的图案偏振膜,其中,
各区域(B)具有带状、圆状、文字状或图形状的形状,连续的区域(B)的面积为500mm2以下。
8.如权利要求1或2所述的图案偏振膜,其中,
以条纹状具有区域(A)和区域(B)。
9.如权利要求8所述的图案偏振膜,其中,
区域(B)的宽度为1μm~10mm。
10.如权利要求8所述的图案偏振膜,其中,
区域(B)的宽度为1μm~1mm。
11.如权利要求1所述的图案偏振膜,其中,
基材为具有1/4波片功能的相位差膜。
12.如权利要求1所述的图案偏振膜,其还具备具有1/4波片功能的相位差膜。
13.如权利要求11或12所述的图案偏振膜,其中,
具有1/4波片功能的相位差膜具有逆波长分散特性。
14.如权利要求1所述的图案偏振膜,其中,
基材为具有1/2波片功能的相位差膜,且所述基材上还层叠有具有1/4波片功能的相位差膜。
15.如权利要求11、12和14中任一项所述的图案偏振膜,其还具有正C膜。
16.权利要求1所述的图案偏振膜的制造方法,其包括下述工序(1)~(4):
(1)在基材的表面或形成有取向膜的基材的表面涂布含有聚合性液晶化合物和二色性色素的组合物的工序,
所述二色性色素包含3种以上的偶氮色素;
(2)使所涂布的聚合性液晶化合物和二色性色素取向的工序;
(3)隔着光掩模对取向后的聚合性液晶化合物照射活性能量射线,由此得到含有聚合性液晶化合物的聚合物、和未聚合的聚合性液晶化合物的液晶固化膜的工序;
(4)利用所述二色性色素在23℃的饱和溶解度为1质量%以下的溶剂清洗所述液晶固化膜,除去所述未聚合的聚合性液晶化合物,由此得到经图案化后的液晶固化膜的工序。
17.如权利要求16所述的图案偏振膜的制造方法,其中,
基材为树脂基材。
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