[发明专利]一种除杂质的铜电解液添加剂及其制备方法在审
申请号: | 201510187479.9 | 申请日: | 2015-04-21 |
公开(公告)号: | CN104862736A | 公开(公告)日: | 2015-08-26 |
发明(设计)人: | 胡照弟 | 申请(专利权)人: | 郎溪县鑫科金属科技有限公司 |
主分类号: | C25C1/12 | 分类号: | C25C1/12 |
代理公司: | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人: | 方峥 |
地址: | 242100 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 杂质 电解液 添加剂 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及铜电解液技术领域,尤其涉及一种除杂质的铜电解液添加剂及其制备方法。
背景技术
在铜电解精炼过程中,为了获得结构致密、表面光滑和其他有害杂质含量少的优质阴极铜,要在电解液中加入表面活性物质—添加剂。目前大部分厂家常用的添加剂涉及的主要原料有明胶、硫脲和盐酸。由于明胶为高分子蛋白质,不好溶化,大部分厂家便采用常温水浸泡12 ~ 24 小时的溶化方法。这一方法由于浸泡时间长,存在易被污染变质、粘度变化大、易吸附在阴极上,抑制铜粒子生长等缺点。
在阴极铜生产过程中,对于粗杂阳极板杂质成分含量复杂,在高酸、高电流密度电解生产工艺条件下,采用上述大部分厂家使用的添加剂种类、配比及溶解方法所生产的A级铜存在以下缺陷:
(1)生产A 级铜杂质总含量偏高
由于原添加剂种类、配比及溶解方法生产的A 级铜杂质总含量为45ppm,阴极铜的析出质量不够稳定,结晶不致密,砷、锑、铋等杂质含量高。
(2)电解液中漂浮阳极泥的絮凝效果不好,极易粘附在阴极表面形成结粒。
因此,需要改进电解液添加剂,来提高电解铜工艺,提高产量和质量。
发明内容
本发明的目的在于提供一种除杂质的铜电解液添加剂,该添加剂能够去除有害于电积铜的杂质元素,砷的去除率达到85%。
本发明的技术方案如下:
一种除杂质的铜电解液添加剂,其特征在于由下列重量份的原料制成:明胶10-11、纳米茶多酚0.3-0.4、硫脲13-14、水合二氧化锰0.8-1.1、活性炭粉0.2-0.3、去离子水适量、75wt%硫酸3-4。
所述的除杂质的铜电解液添加剂的生产方法,其特征在于:
(1)将硫脲、水合二氧化锰、活性炭粉混合,研磨均匀,得到混合物料;
(2)取60-70重量份的去离子水,加入75wt%硫酸,再加入明胶,加热至沸腾,加入其他剩余成分,在3000-4000转/分下搅拌1.5-2个小时,超声分散4-5分钟,在50-53℃下静置17-19个小时;
(3)将第(1)步和第(2)步得到的物料混合,加热至60-70℃,在5000-7000转/分下搅拌40-60分钟,用孔径为1μm的过滤网过滤,即得。
使用时按明胶含量为25mg/L计算用量,连续均匀地加入到电解液中,搅拌均匀,即可。
本发明的有益效果
本发明铜电解液添加剂通过使用水合二氧化锰、活性炭粉,能够去除有害于电积铜的杂质元素,砷的去除率达到85%,能够得到砷、锑、铋等杂质含量少的优质阴极铜,符合国家标准,提高了资源利用率;通过添加纳米茶多酚,提高了明胶的抗氧化和抗菌性能,延长了使用时间;本发明生产工艺能够使明胶的粘度保持稳定,不会因粘度过大造成铜箔夹杂明胶,变粗糙的现象。
具体实施方式
一种除杂质的铜电解液添加剂,由下列重量份(公斤)的原料制成:明胶10.5、纳米茶多酚0.3、硫脲13.5、水合二氧化锰1、活性炭粉0.2、去离子水适量、75wt%硫酸3.5。
所述的除杂质的铜电解液添加剂的生产方法,其特征在于:
(1)将硫脲、水合二氧化锰、活性炭粉混合,研磨均匀,得到混合物料;
(2)取65重量份的去离子水,加入75wt%硫酸,再加入明胶,加热至沸腾,加入其他剩余成分,在3500转/分下搅拌1.8个小时,超声分散4分钟,在52℃下静置18个小时;
(3)将第(1)步和第(2)步得到的物料混合,加热至65℃,在6000转/分下搅拌50分钟,用孔径为1μm的过滤网过滤,即得。
使用时按明胶含量为25mg/L计算用量,连续均匀地加入到电解液中,搅拌均匀,即可。
实验数据:
所产阴极铜杂质含量为36 ppm,复合国家A 阴极铜标准,铜板面致密、光滑,物理外观质量良好。
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