[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，包括多个像素区以及设置于所述像素区的薄膜晶体管，每一所述像素区划分为透射区和反射区，其特征在于，所述薄膜晶体管的上方设置有保护层，所述保护层在对应着所述反射区的区域设置为凸起部，对应着所述薄膜晶体管的区域开设有过孔。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述凸起部的上方还设置有色阻层，所述色阻层还延伸至所述透射区，且所述色阻层对应着所述透射区的厚度为对应着所述反射区的厚度的两倍。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，对应着所述保护层的凸起部和所述色阻层之间还设置有反射层。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述色阻层的上方还设置有像素电极层，所述像素电极层与所述薄膜晶体管的漏极通过开设于所述保护层中的所述过孔电连接。

5.根据权利要求1-4任一项所述的显示基板，其特征在于，所述保护层采用氮化硅材料或氧化硅材料形成。

6.根据权利要求2-4任一项所述的显示基板，其特征在于，该所述显示基板中每四个像素区形成一个像素单元，每一所述像素单元包括红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素和白色子像素，红色子像素中的所述色阻层为红色，绿色子像素中的所述色阻层为绿色，蓝色子像素中的所述色阻层为蓝色。

7.一种显示基板的制备方法，该显示基板包括多个像素区以及设置于所述像素区的薄膜晶体管，每一所述像素区划分为透射区和反射区，其特征在于，该制备方法包括：采用一次构图工艺在所述薄膜晶体管的上方形成保护层，所述保护层在对应着所述反射区的区域形成凸起部，对应着所述薄膜晶体管的区域形成过孔。

8.根据权利要求7所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述保护层采用多色调曝光工艺形成，其中：对应着形成所述凸起部的区域为不透光区，对应着形成所述过孔的区域为全透光区，其他区域为半透光区。

9.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-6任一项所述的显示基板以及与所述显示基板相对设置的公共电极层。

10.根据权利要求9所述的显示装置，其特征在于，所述保护层的凸起部与所述反射层的厚度之和为对应着透射区的所述显示基板与所述公共电极层相对的表面之间的距离的一半。