[发明专利]可降解的柔性光电子器件用基板及其制备方法有效
申请号: | 201510194269.2 | 申请日: | 2015-04-22 |
公开(公告)号: | CN104953034B | 公开(公告)日: | 2018-03-13 |
发明(设计)人: | 于军胜;王煦;周殿力;韩世蛟 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01L51/44 | 分类号: | H01L51/44;H01L51/48;H01L51/46;H01L51/52;H01L51/56;H01L51/54 |
代理公司: | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司51230 | 代理人: | 杨保刚,马林中 |
地址: | 610000 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 降解 柔性 光电子 器件 用基板 及其 制备 方法 | ||
1.可降解的柔性光电子器件用基板,包括柔性衬底和导电层,所述导电层位于柔性衬底的上方,其特征在于,所述柔性衬底为掺有紫外敏感胶的虫胶,所述紫外敏感胶在虫胶中的质量比为0.3—6.5%,所述紫外敏感胶由包括自由基型紫外敏感胶和阳离子型紫外敏感胶的混合体系构成;所述自由基型紫外敏感胶的组分及质量比为:
基础树脂 88-98 %
单体 0.5-4 %
光引发剂 1-4 %
光敏剂以及助剂 0.5-6 %;
所述阳离子型紫外敏感胶的组分及质量比为:
阳离子单体 88-98 %
稀释剂 1.2-9 %
阳离子光引发剂 0.8-4 %;
该可降解的柔性光电子器件用基板的制备方法,包括以下步骤:
①对表面粗糙度小于1 nm的刚性基板进行清洗,清洗后用干燥氮气吹干;
②在刚性基板上采用辊涂、LB膜法、刮涂、旋涂、滴涂、喷涂、提拉法、流延法、浸涂、喷墨打印、自组装或丝网印刷制备柔性衬底,所述柔性衬底为虫胶,所述虫胶中掺有紫外敏感胶,所述紫外敏感胶为自由基型紫外敏感胶和阳离子型紫外敏感胶的混合体系;
③在柔性衬底表面采用辊涂、LB膜法、滴涂、喷涂、提拉法、喷墨打印或丝网印刷法制备导电层;
④对步骤③得到的柔性衬底进行紫外光处理;
⑤将步骤④中紫外光处理后的柔性衬底从刚性基板上剥离,形成柔性光电子器件用基板;制备完成后,测试柔性光电子器件用基板的降解特性、方阻、表面形貌、水氧透过率和光透过率。
2.根据权利要求1所述的可降解的柔性光电子器件用基板,其特征在于,所述基础树脂为不饱和聚酯树脂、丙烯酸系树脂或多硫醇-多烯体系中的一种或多种;所述单体为苯乙烯及其衍生物、单官能团或多官能团丙烯酸酯中的一种或多种;所述光引发剂为安息香或者安息香衍生物,所述安息香衍生物为安息香甲醚、安息香乙醚、安息香异丙醚或乙酰苯衍生物中的一种或多种;所述光敏剂为二苯甲酮、硫杂蒽醌或米蚩酮中的一种或多种;所述助剂包括增塑剂、触变剂、填充剂、防静电剂、阻燃剂和偶联剂;所述阳离子单体为环氧树脂、改性环氧树脂、含氟以及不含氟的混合树脂或者脂肪族或者双酚D-型混合环氧树脂中的一种或者多种;所述稀释剂为活性环氧树脂稀释剂、环醚、环内酯或乙烯基醚单体中的一种或者多种;所述阳离子光引发剂为二芳基碘鎓盐、三芳基碘鎓盐、三芳基硫鎓盐或三芳基硒鎓盐中的一种或者多种。
3.根据权利要求2所述的可降解的柔性光电子器件用基板,其特征在于,所述丙烯酸系树脂为聚酯-丙烯酸酯、环氧-丙烯酸酯、氨基甲酸酯-丙烯酸酯或聚醚-丙烯酸酯中的一种或多种。
4. 根据权利要求2所述的可降解的柔性光电子器件用基板,其特征在于,所述多硫醇-多烯体系为下列结构式的物质中的一种或多种:
。
5.根据权利要求1所述的可降解的柔性光电子器件用基板,其特征在于,所述混合体系原料包括环氧树脂E-51,二芳基碘鎓盐和二异丙基噻唑酮。
6.根据权利要求1所述的可降解的柔性光电子器件用基板,其特征在于,所述混合体系原料包括双酚A环氧树脂,硫鎓离子六氟磷酸盐和硫鎓离子六氟锑酸盐,丁基缩水甘油醚,长碳链缩水甘油醚,羟基单体,二官能和三官能的聚己内酯多元醇。
7.根据权利要求1所述的可降解的柔性光电子器件用基板,其特征在于,所述混合体系原料包括三缩四乙二醇二甲基丙烯酸酯,3,4-环氧环己基甲基-3',4'-环氧环己烷羧酸酯,α-羟基环己基苯酮,2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮,安息香二甲醚和六氟磷酸二苯基碘鎓盐。
8.根据权利要求1所述的可降解的柔性光电子器件用基板,其特征在于,所述混合体系原料包括2-乙二醇烯丙基醚,环氧丙烯酸树脂,二甲苯基碘鎓盐,2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮和2-羟基-2-甲基苯丙酮。
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