[发明专利]一种基于微透镜阵列的火焰光场探测泛尺度分析方法在审
申请号: | 201510194407.7 | 申请日: | 2015-04-22 |
公开(公告)号: | CN104819774A | 公开(公告)日: | 2015-08-05 |
发明(设计)人: | 谈和平;袁远;齐宏;易红亮;刘彬;帅永;李赛;董士奎 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | G01J1/42 | 分类号: | G01J1/42 |
代理公司: | 四川君士达律师事务所 51216 | 代理人: | 芶忠义 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 透镜 阵列 火焰 探测 尺度 分析 方法 | ||
1.一种基于微透镜阵列的火焰光场探测泛尺度分析方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)建立高温弥散介质光辐射物理模型,赋予该物理模型尺度、物性参数;
(2)建立具有微透镜阵列的光场相机模型;
(3)计算高温弥散介质中气体、粒子光谱辐射特性参数,并将所述特性参数赋值给所述物理模型;
(4)利用蒙特卡洛算法进行发射光线模拟;
(5)计算获得光场相机CCD相面能量分布图;
(6)根据所述光场相机CCD相面能量分布图计算不同微透镜所成高温弥散介质图像。
2.根据权利要求1所述的基于微透镜阵列的火焰光场探测泛尺度分析方法,其特征在于,步骤1中,所述高温弥散介质共分3层,均为参与性介质,每层介质又3×3个小立方体组成,每块介质被赋予不同的参数。
3.根据权利要求1所述的基于微透镜阵列的火焰光场探测泛尺度分析方法,其特征在于,步骤2中所述微透镜阵列位于主透镜与CCD之间,且处于主透镜焦平面处。
4.根据权利要求1所述的基于微透镜阵列的火焰光场探测泛尺度分析方法,其特征在于,步骤4在进行发射光线模拟时,采用光线分裂方法对发射光线进行模拟。
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