[发明专利]一种基于微透镜阵列的火焰光场探测泛尺度分析方法在审

专利信息
申请号: 201510194407.7 申请日: 2015-04-22
公开(公告)号: CN104819774A 公开(公告)日: 2015-08-05
发明(设计)人: 谈和平;袁远;齐宏;易红亮;刘彬;帅永;李赛;董士奎 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: G01J1/42 分类号: G01J1/42
代理公司: 四川君士达律师事务所 51216 代理人: 芶忠义
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 透镜 阵列 火焰 探测 尺度 分析 方法
【权利要求书】:

1.一种基于微透镜阵列的火焰光场探测泛尺度分析方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)建立高温弥散介质光辐射物理模型,赋予该物理模型尺度、物性参数;

(2)建立具有微透镜阵列的光场相机模型;

(3)计算高温弥散介质中气体、粒子光谱辐射特性参数,并将所述特性参数赋值给所述物理模型;

(4)利用蒙特卡洛算法进行发射光线模拟;

(5)计算获得光场相机CCD相面能量分布图;

(6)根据所述光场相机CCD相面能量分布图计算不同微透镜所成高温弥散介质图像。

2.根据权利要求1所述的基于微透镜阵列的火焰光场探测泛尺度分析方法,其特征在于,步骤1中,所述高温弥散介质共分3层,均为参与性介质,每层介质又3×3个小立方体组成,每块介质被赋予不同的参数。

3.根据权利要求1所述的基于微透镜阵列的火焰光场探测泛尺度分析方法,其特征在于,步骤2中所述微透镜阵列位于主透镜与CCD之间,且处于主透镜焦平面处。

4.根据权利要求1所述的基于微透镜阵列的火焰光场探测泛尺度分析方法,其特征在于,步骤4在进行发射光线模拟时,采用光线分裂方法对发射光线进行模拟。

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