[发明专利]一种硅片台曝光区域六自由度位移测量方法有效
| 申请号： | 201510197948.5 | 申请日： | 2015-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN105045042B | 公开（公告）日： | 2017-06-16 |
| 发明（设计）人： | 朱煜;张鸣;陈安林;成荣;杨开明;刘峰;宋玉晶;支凡;胡金春;徐登峰;穆海华;胡楚雄 | 申请（专利权）人： | 清华大学;北京华卓精科科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01B11/02 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司11327 | 代理人： | 邸更岩,林锦辉 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区1*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 曝光 区域 自由度 位移 测量方法 | ||
1.一种硅片台曝光区域六自由度位移测量方法，所述曝光区域(10)为曝光光束(2)投影到运动台(3)上形成的区域，其特征在于所述方法包括如下步骤：
1)在运动台的磁钢阵列(8)的下方固定平面光栅(9)，平面光栅的测量面朝向线圈阵列(4)，将读数头(5)固定在线圈阵列的空隙中，读数头中心线和透镜(1)的中心线重合；
2)读数头的测量光束(6)入射在平面光栅上形成测量区域(11)，测量区域的中心B和曝光区域(10)的中心A在同一竖直线上；
3)静止坐标系O-XYZ固定在线圈阵列(4)上，在某一时刻，利用读数头和平面光栅测量得到测量区域的六自由度位姿(px,py,pz,θx,θy,θz)，其中(px,py,pz)是测量区域中心B点的坐标，θx,θy,θz是测量区域所在平面沿Z正方向的法线分别与坐标轴X、Y和Z所成夹角；
4)将曝光区域覆盖的那部分运动台近似为刚体，根据测量区域的六自由度位姿，代入(px',py',pz',θx',θy',θz')＝(px+Lcosθx,py+Lcosθy,pz+Lcosθz,θx,θy,θz)解算得到曝光区域的六自由度位姿，其中px',py',pz'代表曝光区域中心A点的位置，θx',θy',θz'代表曝光区域所在平面沿Z正方向的法线分别与坐标轴X、Y和Z所成夹角，L是A、B两点的距离；
5)当运动台运动到下一时刻，曝光区域的六自由度位姿减去上一时刻的六自由度位姿即得到曝光区域从上一时刻到下一时刻的六自由度位移。
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