[发明专利]一种阿普斯特中间体的合成工艺

权利要求书

1.一种阿普斯特中间体的合成工艺，其特征在于，所述工艺包括以下反应步骤：

(1)在反应器中加入二甲基砜，再加入溶剂A，氮气置换3次，冷却降温至0～10℃，再往反应器中滴加正丁基锂溶液，并控制温度在0～10℃，滴加完毕继续在0～10℃搅拌30～70分钟；

(2)再将3-乙氧基-4-甲氧基苯甲腈(I)用溶剂A溶解得到混合溶液，然后在0～10℃下将所述混合溶液滴加到反应器中，滴加完毕后将反应体系温度升至15～25℃，搅拌2～4小时，直到反应完全；

(3)然后滴加纯净水进行淬灭反应，搅拌10分钟后，浓缩抽滤得到类白色固体1-(3-乙氧基-4-甲氧基苯基)-2-(甲磺酰基)乙烯胺(II)；

(4)在新的反应器中加入溶剂B后，再加入1-(3-乙氧基-4-甲氧基苯基)-2-(甲磺酰基)乙烯胺(II)，氮气置换3次，冷却降温至0～10℃，加入还原剂C，控制反应体系温度在0～10℃，继续在此温度下搅拌60～70分钟，直到反应完全；

(5)然后将反应体系冷却至10±2℃，滴加酸D调节体系的pH至1，加热至73±2℃，回流6～12h，降温至0～10℃，加入碱E调节体系的pH至12，搅拌1小时，冷却至0～10℃后抽滤得到白色固体1-(3-乙氧基-4-甲氧基苯基)-2-(甲磺酰基)乙胺(III)；

其中，溶剂A是二氧六环、己烷、甲苯、四氢呋喃中的任意一种或多种的混合；

溶剂B是乙酸乙酯、甲醇、乙醇、甲苯、四氢呋喃、二氯甲烷中的任意一种或多种的混合；

还原剂C是硼烷二甲硫醚、硼烷四氢呋喃溶液及硼氢化钠与三氟化硼乙醚还原体系、硼氢化钾与三氟化硼乙醚还原体系、硼氢化锂与三氟化硼乙醚还原体系原位生成硼烷的还原体系的任意一种或多种的混合；

酸D是盐酸、硫酸、冰醋酸、磷酸、氢溴酸中的任意一种；

碱E是氢氧化钠、碳酸钠、碳酸氢钠、碳酸钾、碳酸铯、叔丁醇钾中的任意一种。

2.根据权利要求1所述一种阿普斯特中间体的合成工艺，其特征在于，步骤(1)所述的3-乙氧基-4-甲氧基苄腈(I)与二甲基砜的摩尔比为1：1～1：2。

3.根据权利要求1所述一种阿普斯特中间体的合成工艺，其特征在于，步骤(1)所述的3-乙氧基-4-甲氧基苄腈(I)与正丁基锂的摩尔比为1：1～1：2。

4.根据权利要求1所述一种阿普斯特中间体的合成工艺，其特征在于，步骤(2)所述的1-(3-乙氧基-4-甲氧基苯基)-2-(甲磺酰基)乙烯胺(II)与还原剂C的摩尔比为1：1～1：10。