[发明专利]由阀金属和阀金属低氧化物组成的纳米结构及其制备方法

权利要求书

1.阀金属和/或阀金属低氧化物的带状或板状结构，所述结构具有5-100nm的横向尺寸并且具有纳米片层结构。

2.如权利要求1所述的结构，其特征在于，所述结构是阀金属结构，所述结构包含Ti、Zr、V、Nb、Ta、Mo、W、Hf、Al或其合金。

3.如权利要求1所述的结构，其特征在于，所述结构是阀金属低氧化物结构，所述阀金属低氧化物具有化学式NbO_x，其中0.7﹤x﹤1.3。

4.如权利要求1或2所述的结构，其特征在于，所述结构是在足以进行还原的温度下，利用还原性金属蒸气还原阀金属氧化物形成片层纳米结构而制得的，所述结构包括至少一种还原性金属，其含量为10-500ppm。

5.一种权利要求1-4中任一项所述的阀金属和/或阀金属低氧化物的带状或板状结构的制造方法，它包括：

在足以进行还原的温度下，使粉末状的阀金属的氧化物与还原性金属蒸气接触，形成片层纳米结构，其特征在于，在片层结构发生热分解和转化为粗化结构之前，冻结被还原的阀金属氧化物。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述还原在小于0.2巴的惰性气体压力下、10^-2-0.4巴还原性金属蒸气压力的条件下进行。

7.如权利要求5所述的方法，其特征在于，还原完成之后，立即将还原产物冷却至低于100℃。

8.如权利要求5所述的方法，其特征在于，用Li、Al、Mg和/或Ca作为还原性金属。

9.如权利要求5所述的方法，其特征在于，用Al、Hf、Ti、Zr、V、Nb、Ta、Mo和/或W的氧化物及其混合氧化物作为待还原氧化物。

10.如权利要求5所述的方法，其特征在于，使用Nb或者Ta的氧化物作为要还原的氧化物。