[发明专利]亚波长三维螺旋圆偏振滤光片及其制作方法

权利要求书

1.一种亚波长三维螺旋圆偏振滤光片，其特征在于：包括二氧化硅基片、设于二氧化硅基片上的三维螺旋纳米柱和覆于二氧化硅基片与三维螺旋纳米柱表面的金属薄膜层，所述三维螺旋纳米柱的半径为0.7～1.1um，高为1.8～3um，每个三维螺旋纳米柱的周期为1.4～2.2um，所述金属薄膜层厚度为0.05～0.15um。

2.根据权利要求1所述的一种亚波长三维螺旋圆偏振滤光片，其特征在于：所述三维螺旋纳米柱的半径为0.95um，高为2um，每个三维螺旋纳米柱的周期为1.9um。

3.根据权利要求1所述的一种亚波长三维螺旋圆偏振滤光片，其特征在于：所述金属薄膜层厚度为0.1um。

4.一种亚波长三维螺旋圆偏振滤光片的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）在二氧化硅基片上旋涂光刻胶；

（2）采用激光直写系统直接在光刻胶上写出三维螺旋纳米柱结构并进行显影；

（3）通入氧气，采用反应离子束进行刻蚀，去除残余光刻胶；

（4）在转移好的二氧化硅基片及三维螺旋纳米柱结构上采用磁控溅射方法镀上金属薄膜层。