[发明专利]一种同质外延生长单晶金刚石时控制表面温度的方法有效
申请号: | 201510199722.9 | 申请日: | 2015-04-25 |
公开(公告)号: | CN104775154B | 公开(公告)日: | 2017-06-27 |
发明(设计)人: | 舒国阳;代兵;朱嘉琦;王杨;杨磊;韩杰才 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | C30B25/16 | 分类号: | C30B25/16;C30B29/04 |
代理公司: | 哈尔滨龙科专利代理有限公司23206 | 代理人: | 高媛 |
地址: | 150000 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 同质 外延 生长 金刚石 控制 表面温度 方法 | ||
1.一种同质外延生长单晶金刚石时控制表面温度的方法,其特征在于所述方法步骤如下:
一、清洗:
将单晶金刚石籽晶和金属钼衬底圆片进行清洗;
二、焊接:
将籽晶用金箔焊接在钼衬底圆片上,使籽晶得以固定;
三、制作隔热丝:
将隔热丝裁剪为0.5~1.5cm长度,从中间折弯成“V”型,所述隔热丝为钨丝,所述“V”型的两边平直且没有弯曲,夹角为45°~75°;
四、放置样品:
将制作好的隔热丝放于金刚石生长系统的底座托盘中心,将焊接好的样品平稳放于隔热丝之上;
五、生长前准备工作:
(1)关舱后,进行舱体的抽真空,使舱内真空度达到3.0×10-6~5.0×10-6mbar;
(2)开启程序,设定氢气流量为200sccm,舱内气压为10mbar,启动微波发生器,激活等离子体;
(3)升高气压和功率,使样品表面温度达到850~950℃,在氢等离子体气氛中清洗10~30分钟;
(4)通入氧气,设定氧气流量为5~10sccm,在氢氧混合等离子体气氛下刻蚀5~20分钟;
(5)关闭氧气阀门,停止通入氧气;
六、金刚石生长:
打开甲烷气体阀门,通入甲烷气体,并设定甲烷流量与氢气流量的比值,同时调整气压和功率,使得样品表面温度达到单晶金刚石所需要的生长条件。
2.根据权利要求1所述同质外延生长单晶金刚石时控制表面温度的方法,其特征在于所述清洗步骤如下:将单晶金刚石籽晶和金属钼衬底圆片依次放入丙酮、去离子水、无水乙醇中,在超声功率为100~300W的条件下清洗15~30min,得到洁净的籽晶和钼合金衬底。
3.根据权利要求1所述同质外延生长单晶金刚石时控制表面温度的方法,其特征在于所述夹角为60°。
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