[发明专利]基于层片状共晶合金系制备出连续规则层片状微槽的方法

权利要求书

1.一种基于层片状共晶合金系制备出连续规则层片状微槽的方法，其特征在于步骤如下：

步骤1：选择共晶组织为层片状的合金系，依照所选合金系相图确定合金系的共晶点和熔点，然后按共晶成分点配比在真空电弧炉中熔配得到共晶母合金铸锭；

步骤2：将共晶母合金铸锭加工成圆柱形棒子，并去除棒子表层氧化皮；

步骤3：将步骤2得到的棒子在高温度梯度定向凝固炉中定向生长制备出规则层片状两相共晶合金，加热温度高于熔点100℃，在相关合金的定向生长规律抽拉速率范围内选择抽拉速率；

步骤4：然后将棒子切成圆薄片、镶样、打磨和抛光；

步骤5：再进行化学或电化学腐蚀，去除其中一相，得到不同宽度和深度的单相微槽结构。

2.根据权利要求1所述基于层片状共晶合金系制备出连续规则层片状微槽的方法，其特征在于：所述共晶组织为层片状的合金系为如Ni-Si系或Al-Cu系。

3.根据权利要求1所述基于层片状共晶合金系制备出连续规则层片状微槽的方法，其特征在于：所述化学腐蚀时根据合金中单相的化学特性和所选腐蚀剂中各个相的极化曲线确定最佳腐蚀剂。

4.根据权利要求1所述基于层片状共晶合金系制备出连续规则层片状微槽的方法，其特征在于：所述电化学腐蚀过程中腐蚀剂和腐蚀电位的选择依据电位-PH图并结合合金中单相的极化曲线选择出最佳的腐蚀剂和腐蚀电位。