[发明专利]光学缺陷检测方法和系统有效
申请号: | 201510208276.3 | 申请日: | 2015-04-28 |
公开(公告)号: | CN104792793B | 公开(公告)日: | 2019-09-10 |
发明(设计)人: | 刘凯 | 申请(专利权)人: | 刘凯 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88 |
代理公司: | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人: | 黄海霞 |
地址: | 美国加州圣何塞市*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 缺陷 检测 方法 系统 | ||
1.一种光学缺陷检测方法,其特征在于,包括:
二维扫描相机对放置在承载台上的被测件进行扫描,并将二维扫描数据传送到数据分析及机器控制设备;
所述数据分析及机器控制设备根据所述二维扫描数据,判断所述被测件是否存在缺陷,如果存在缺陷,并在需要测定缺陷的高度或深度时,所述数据分析及机器控制设备驱动三维显微仪器;
所述三维显微仪器对所述被测件进行缺陷的高度和/或深度测定,并将测定的缺陷的高度和/或深度的三维数据传送到所述数据分析及机器控制设备;
所述数据分析及机器控制设备根据所述缺陷的高度和/或深度的三维数据,结合所述二维扫描的数据,对所述被测件进行光学缺陷检测。
2.根据权利要求1所述的光学缺陷检测方法,其特征在于,所述二维扫描相机对放置在承载台上的被测件表面进行扫描,具体为:
所述承载台下还设有旋转基座和XY基座,通过所述承载台带动所述被测件进行自转和/或升所述降,和/或所述旋转基座驱动所述承载台带动所述被测件进行旋转,和/或XY基座驱动所述承载台带动所述被测件进行X方向和Y方向上移动,所述二维扫描相机对放置在承载台上的被测件表面进行扫描。
3.根据权利要求1或2所述的光学缺陷检测方法,其特征在于,所述二维扫描相机对放置在承载台上的被测件进行扫描,并将二维扫描数据传送到数据分析及机器控制设备,具体为:
所述二维扫描相机对所述被测件的各表面进行扫描,并将各表面的二维扫描数据传送到数据分析及机器控制设备;或者,
所述二维扫描相机按照排列顺序对所述被测件的一表面进行扫描,将所述表面的二维扫描数据传送到数据分析及机器控制设备,如果所述数据分析及机器控制设备和/或所述三维显微仪器确定所述表面合格,则按照排列顺序对所述被测件的其他表面进行扫描,其中,所述排列顺序为所述被测件各表面的二维扫描时间从短到长的排列顺序。
4.根据权利要求1所述的光学缺陷检测方法,其特征在于,所述如果存在缺陷,并在需要测定缺陷的高度或深度时,所述数据分析及机器控制设备驱动三维显微仪器,具体为:
所述缺陷包括凹形、目测不良和/或凸起,如果存在缺陷,所述数据分析及机器控制设备确定缺陷类型、缺陷位置、缺陷个数和/或缺陷面积;
若所述被测件的缺陷类型、缺陷位置、缺陷个数和/或缺陷面积超出第一阈值,则所述数据分析及机器控制设备判断所述被测件不合格;
若所述被测件的缺陷类型、缺陷位置、缺陷个数和/或缺陷面积未超出第一阈值,则需要测定缺陷的高度或深度,所述数据分析及机器控制设备驱动三维显微仪器进行扫描。
5.根据权利要求4所述的光学缺陷检测方法,其特征在于,所述数据分析及机器控制设备根据所述缺陷的高度和/或深度的三维数据,并结合所述二维扫描的数据,对所述被测件进行光学缺陷检测,具体为:
如果所述被测件的缺陷类型、缺陷位置、缺陷个数和/或缺陷面积未超出第一阈值,且所述被测件缺陷的高度和/或深度大于设定的第二阀值,则所述数据分析及机器控制设备判断所述被测件不合格;
如果所述被测件的缺陷类型、缺陷位置、缺陷个数和/或缺陷面积未超出第一阈值,但被测件缺陷的高度和/或深度小于设定的第二阀值,则所述数据分析及机器控制设备判断所述被测件合格。
6.一种光学缺陷检测系统,其特征在于:包括承载台、旋转基座、XY基座、二维扫描相机、数据分析及机器控制设备和三维显微仪器,其中,
所述承载台,用于放置被测件并用于使所述被测物进行自转和/或升降;
所述旋转基座,用于旋转所述承载台;
所述XY基座,用于在X方向和Y方向上移动所述承载台;
所述二维扫描相机,用于扫描所述被测件,并将二维扫描的数据发送给所述数据分析及机器控制设备;
所述三维显微仪器,用于测定所述被测件缺陷的高度和/或深度,并将缺陷的高度和/或深度的三维数据发送给所述数据分析及机器控制设备;
所述数据分析及机器控制设备,用于根据所述二维扫描数据,判断所述被测件是否存在缺陷,如果存在缺陷,并在需要测定缺陷的高度或深度时,驱动所述三维显微仪器;还用于根据所述缺陷的高度和/或深度的三维数据,结合所述二维扫描的数据,对所述被测件进行光学缺陷检测;还用于控制系统各个部件并按照设定程序做出相应动作。
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