[发明专利]曝光装置和曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置，包括：

工件支承部，所述工件支承部支承工件；

掩模支承部，所述掩模支承部支承掩模；

照明光学系统，所述照明光学系统具有光源和将来自该光源的曝光光反射的反射镜；及

镜弯曲机构，所述镜弯曲机构能校正所述反射镜的曲率，

所述曝光装置将来自所述光源的曝光光隔着所述掩模照射到所述工件，将所述掩模的图案转印到所述工件，

所述曝光装置的特征在于，

包括对照射到所述工件的曝光光的照度进行测定的照度计，

在曝光所述工件前，使用所述照度计测定经由所述反射镜照射到所述工件的所述曝光光的曝光区域的照度分布。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

包括移动所述工件支承部以便使所述工件与所述掩模在水平方向相对移动的输送机构，

驱动所述输送机构，能够使所述照度计在所述曝光区域的整个范围移动。

3.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，

根据由所述照度计测定的所述曝光区域的照度分布，驱动所述镜弯曲机构，从而校正所述反射镜的曲率。

4.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，

所述照明光学系统包括多个所述反射镜，并且，

所述镜弯曲机构包含分别能校正所述多个反射镜的曲率的多个镜弯曲机构，

对于所述多个反射镜的任意1个，驱动所述镜弯曲机构，从而校正其曲率，

对于所述多个反射镜的任意另1个，在校正了所述任意1个反射镜的曲率的状态下，根据由所述照度计测定的所述曝光区域的照度分布来驱动所述镜弯曲机构，从而校正其曲率。

5.一种曝光方法，使用权利要求3所述的曝光装置，将来自所述光源的曝光光隔着所述掩模照射到所述工件，将所述掩模的图案转印到所述工件，其特征在于，包括如下的工序：

使用所述照度计测定经由所述反射镜照射到所述工件的所述曝光光的曝光区域的照度分布；及

根据由所述照度计测定的所述曝光区域的照度分布来驱动所述镜弯曲机构，从而校正所述反射镜的曲率。

6.一种曝光方法，使用权利要求4所述的曝光装置，将来自所述光源的曝光光隔着所述掩模照射到所述工件，将所述掩模的图案转印到所述工件，其特征在于，包括如下的工序：

对于所述多个反射镜的任意1个，驱动所述镜弯曲机构，从而校正其曲率；

使用所述照度计，测定经由所述曲率由所属镜弯曲机构进行了校正的所述任意1个反射镜照射到所述工件的所述曝光光的曝光区域的照度分布；及

对于所述多个反射镜的任意另1个，在校正了所述任意1个反射镜的曲率的状态下，根据由所述照度计测定的所述曝光区域的照度分布来驱动所述镜弯曲机构，从而校正其曲率。