[发明专利]硬化性组合物、硬化物的制造方法、硬化物、硬化膜及显示装置有效

专利信息
申请号: 201510214243.X 申请日: 2015-04-29
公开(公告)号: CN105022227B 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: 柏木大助;铃木成一;伊藤寛晃;安藤豪;河邉保雅 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/027;G02B1/14;G02F1/1333
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 陶敏;臧建明
地址: 日本东京港区*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 化性 组合 硬化 制造 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种硬化性组合物,含有:

成分A:选自由下述a1~a3所组成的组群中的至少一种,

a1:具有烷氧基的钛化合物和/或锆化合物,

a2:具有卤素基的钛化合物和/或锆化合物,

a3:具有至少一个直接键结于钛原子或锆原子的烷氧基的钛氧烷、锆氧烷和/或钛氧烷-锆氧烷缩合物;

成分B:选自由下述b1及b2所组成的组群中的至少一种,

b1:具有钛配位性基和/或锆配位性基以及两个以上的乙烯性不饱和基的化合物,

b2:具有钛配位性基和/或锆配位性基的化合物以及具有两个以上的乙烯性不饱和基的化合物;

成分C:聚合引发剂;以及

成分D:溶剂,并且

相对于硬化性组合物的总固体成分,成分A的含量为15质量%以上且小于40质量%,

相对于硬化性组合物的总固体成分,成分B的含量为40质量%以上且小于85质量%,

相对于成分A的含量100质量份,所述具有钛配位性基和/或锆配位性基以及两个以上的乙烯性不饱和基的化合物、及所述具有钛配位性基和/或锆配位性基的化合物的总含量为20质量份~140质量份。

2.根据权利要求1所述的硬化性组合物,其中:所述钛配位性基和/或锆配位性基为可通过氧原子而配位在钛原子和/或锆原子上的基团。

3.根据权利要求1或2所述的硬化性组合物,其中:所述钛配位性基和/或锆配位性基为具有选自由以下结构所组成的组群中的至少一个结构的基团:1,2-二酮结构、1,3-二酮结构、1,4-二酮结构、α-羟基酮结构、α-羟基酯结构、α-酮基酯结构、β-酮基酯结构、丙二酸二酯结构、富马酸二酯结构及邻苯二甲酸二酯结构。

4.根据权利要求1或2所述的硬化性组合物,其中:成分C包含光聚合引发剂。

5.根据权利要求1或2所述的硬化性组合物,其中:成分C包含肟酯化合物。

6.根据权利要求1或2所述的硬化性组合物,其中:所述a3为通过0.5倍~1.9倍摩尔量的水使选自所述a1的化合物组群中的至少一种进行水解缩合所得的钛氧烷、锆氧烷和/或钛氧烷-锆氧烷缩合物。

7.一种硬化物的制造方法,至少依次包括工序1~工序3,

工序1:涂布工序,将根据权利要求1或2所述的硬化性组合物涂布在基板上;

工序2:溶剂除去工序,从所涂布的硬化性组合物中除去溶剂;

工序3:硬化工序,通过光和/或热使除去了溶剂的硬化性组合物硬化。

8.一种硬化物,其是通过根据权利要求7所述的硬化物的制造方法而获得。

9.根据权利要求8所述的硬化物,其中:波长550nm下的折射率为1.60~1.80。

10.一种硬化膜,其是使根据权利要求1或2所述的硬化性组合物硬化而成。

11.根据权利要求10所述的硬化膜,其为折射率调整膜、层间绝缘膜或保护膜。

12.根据权利要求10所述的硬化膜,其中:波长550nm下的折射率为1.60~1.80。

13.一种液晶显示装置,具有根据权利要求10所述的硬化膜。

14.一种有机电致发光显示装置,具有根据权利要求10所述的硬化膜。

15.一种触摸屏显示装置,具有根据权利要求10所述的硬化膜。

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