[发明专利]GaAs衬底ZnO微米棒端面出光的发光器件及其制备方法有效
申请号: | 201510217380.9 | 申请日: | 2015-04-30 |
公开(公告)号: | CN104953469B | 公开(公告)日: | 2018-02-09 |
发明(设计)人: | 杜国同;史志锋;董鑫;张源涛;张宝林 | 申请(专利权)人: | 吉林大学 |
主分类号: | H01S5/343 | 分类号: | H01S5/343;H01S5/10 |
代理公司: | 长春吉大专利代理有限责任公司22201 | 代理人: | 王淑秋,王恩远 |
地址: | 130012 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | gaas 衬底 zno 微米 端面 发光 器件 及其 制备 方法 | ||
1.一种GaAs衬底ZnO微米棒端面出光的发光器件,其特征在于:依次由下电极(1)、衬底(2)、ZnO微米棒(4)、空穴注入层(6)和上电极(7)构成,衬底(2)是n型导电的GaAs晶体片,ZnO微米棒(4)沿着衬底(2)的<011>方向放置,并和衬底(2)之间用In焊料(3)烧结在一起,ZnO微米棒(4)周围用聚甲基丙烯酸甲酯或聚酰亚胺有机填充物(5)填平,有机填充物(5)的高度与ZnO微米棒(4)的直径相同;空穴注入层(6)为Li掺杂的p-NiO薄膜材料;沿垂直于衬底(2)的<011>方向,衬底(2)和ZnO微米棒(4)被解理成巴条,巴条再被锯切成含有一个ZnO微米棒(4)的管芯,从而形成一种GaAs衬底ZnO微米棒端面出光的发光器件。
2.一种GaAs衬底ZnO微米棒端面出光的发光器件,其特征在于:依次由下电极(1)、衬底(2)、ZnO微米棒(4)、空穴注入层(6)和上电极(7)构成,衬底(2)是n型导电的GaAs晶体片,衬底(2)的<011>方向上具有平底的V型沟槽,ZnO微米棒(4)放置在V型沟槽内,并和衬底(2)之间用In焊料(3)烧结在一起,ZnO微米棒(4)周围用聚甲基丙烯酸甲酯或聚酰亚胺有机填充物(5)填平,有机填充物(5)的高度与ZnO微米棒(4)的直径相同;空穴注入层(6)为Li掺杂的p-NiO薄膜材料;沿垂直于衬底(2)的<011>方向,衬底(2)和ZnO微米棒(4)被解理成巴条,巴条再被锯切成含有一个ZnO微米棒(4)的管芯,从而形成一种GaAs衬底ZnO微米棒端面出光的发光器件。
3.如权利要求2所述的一种GaAs衬底ZnO微米棒端面出光的发光器件,其特征在于:V型沟槽的深度小于ZnO微米棒(4)的直径,V型沟槽的底部宽度大于ZnO微米棒(4)的直径。
4.如权利要求1或2所述的一种GaAs衬底ZnO微米棒端面出光的发光器件,其特征在于:n型导电的GaAs晶体片的电子浓度为5.0×1017~1.0×1019cm-3;Li的原子浓度为5%~8%。
5.如权利要求1或2所述的一种GaAs衬底ZnO微米棒端面出光的发光器件,其特征在于:In焊料(3)的厚度为10纳米~2微米,p-NiO薄膜的厚度为50~500纳米,上、下电极的厚度为100~600纳米,衬底(2)的厚度为60~150微米,巴条的长度为100微米~2毫米,巴条的宽度为100微米~1毫米。
6.如权利要求1或2所述的一种GaAs衬底ZnO微米棒端面出光的发光器件,其特征在于:ZnO微米棒(4)为非故意掺杂的n型ZnO,其电子浓度为3.0×1015~1.5×1016cm-3,直径为0.5~10微米,长度为200~5000微米。
7.如权利要求2所述的一种GaAs衬底ZnO微米棒端面出光的发光器件,其特征在于:V型沟槽的深度为ZnO微米棒(4)直径的1/3~2/3,V型沟槽的底部宽度为3~20微米。
8.如权利要求1或2所述的一种GaAs衬底ZnO微米棒端面出光的发光器件,其特征在于:发光器件为发光管或激光器。
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