[发明专利]一种基于磁控溅射工艺的纳米介质层制备方法有效
| 申请号： | 201510219988.5 | 申请日： | 2015-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN104878355B | 公开（公告）日： | 2017-04-05 |
| 发明（设计）人： | 张涛;韩运忠;周傲松;王颖;徐明明;高文军;贺涛;胡海峰;芦姗 | 申请（专利权）人： | 北京空间飞行器总体设计部 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/04 |
| 代理公司： | 中国航天科技专利中心11009 | 代理人： | 安丽 |
| 地址： | 100094 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 磁控溅射 工艺 纳米 介质 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
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